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龙图腾网获悉深圳市昇维旭技术有限公司申请的专利一种激光退火方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119993829B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510157918.5，技术领域涉及：H01L21/268；该发明授权一种激光退火方法及装置是由张祥设计研发完成，并于2025-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种激光退火方法及装置在说明书摘要公布了：本申请涉及半导体芯片制造领域，本申请提供了一种激光退火方法及装置，本申请的方案为：提供激光，激光能够在基板上形成沿第一方向延伸的条形或线形照射区域；使用激光对基板沿第二方向进行交叠的步进式脉冲照射，以对基板进行激光退火，第二方向垂直于第一方向，且将基板沿第二方向上不同周期之间的步长减少，这使得激光束能量在一定周期内对基板进行多次激光照射时，调整了激光束能量照射在基板上的重叠部分，从而将激光束的低能量部分在基板上转化成高能量，以使其在基板上的结晶与激光束的高能量部分的结晶效果保持一致，实现基板上的结晶高度均匀，从而提高芯片的生产工艺效果，工艺窗口变宽。

本发明授权一种激光退火方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种激光退火方法，其特征在于，所述方法包括： 提供激光，所述激光能够在基板上形成沿第一方向延伸的条形或线形照射区域； 使用所述激光对所述基板沿第二方向进行交叠的步进式脉冲照射，以对所述基板进行激光退火，所述第二方向垂直于所述第一方向；其中： 所述照射区域沿第二方向具有预设宽度w，所述照射区域包括在第二方向上排布的第一区、中间区以及第二区，所述激光在所述中间区具有均匀的能量分布，所述激光在所述第一区和所述第二区具有沿远离所述中间区域方向上衰减的能量分布，其中，所述第一区和所述第二区沿所述第二方向具有第一宽度和第二宽度； 所述使用所述激光对基板沿第二方向进行交叠的步进式脉冲照射，包括以预设步长相对移动所述照射区域和所述基板：在周期内所述预设步长为第一步长m；在相邻两个周期之间包括一次步进，且相邻两个周期之间的所述预设步长为第二步长；所述第二步长小于所述第一步长，且所述第二步长大于所述第一区和所述第二区中任一在所述第二方向上的宽度，其中，所述第一步长和所述第二步长的差值大于或等于所述第一宽度和所述第二宽度之和； 存在正整数N使得w＝N×m，所述周期包括X次所述脉冲照射，所述X＝N。

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