谐振公司帕特里克·特纳获国家专利权
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龙图腾网获悉谐振公司申请的专利一种带有蚀刻停止层的横向激励的薄膜体声波谐振器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113346863B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110065229.3，技术领域涉及：H03H9/17；该发明授权一种带有蚀刻停止层的横向激励的薄膜体声波谐振器是由帕特里克·特纳设计研发完成，并于2021-01-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带有蚀刻停止层的横向激励的薄膜体声波谐振器在说明书摘要公布了：公开了一种声谐振器器件和方法。声学谐振器包括一衬底，衬底具有一表面和一单晶压电板，单晶压电板具有正面和背面。一蚀刻停止层，夹设在所述衬底的表面和所述压电板的背面之间，所述压电板的一部分和所述蚀刻停止层形成横跨所述衬底的空腔的隔膜。一叉指式换能器IDT，其在所述单晶压电板的正面上形成，且所述IDT的交错指状物设置在所述隔膜上。所述蚀刻停止层对于用于形成所述空腔的蚀刻工艺是不可渗透的。
本发明授权一种带有蚀刻停止层的横向激励的薄膜体声波谐振器在权利要求书中公布了：1.一种声谐振器器件，包括： 一衬底，具有一表面； 一单晶压电板； 一蚀刻停止层，夹设在所述衬底的所述表面和所述单晶压电板之间，所述单晶压电板的一部分和所述蚀刻停止层形成横跨一空腔的隔膜；和 一叉指式换能器IDT，其在所述单晶压电板的表面上，且所述IDT的交错指状物设置在所述隔膜上，其中 所述蚀刻停止层对于用于形成所述空腔的蚀刻工艺是不可渗透的，并且所述蚀刻停止层的厚度小于或等于所述单晶压电板的厚度的20％。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人谐振公司，其通讯地址为：美国加利福尼亚州；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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