新应材股份有限公司黄晧伦获国家专利权
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龙图腾网获悉新应材股份有限公司申请的专利光阻组成物、光学膜及光学膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114967323B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110214392.1，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权光阻组成物、光学膜及光学膜的制造方法是由黄晧伦;吴宜声设计研发完成，并于2021-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本光阻组成物、光学膜及光学膜的制造方法在说明书摘要公布了：本揭露书提供一种光阻组成物，包括碱可溶性树脂、光聚合性化合物、光起始剂、热起始剂、黑色着色剂以及溶剂，其中光聚合性化合物占组成物15～85的质量百分比，且包含至少一种乙烯性不饱和单体以及至少一种环氧化合物。本揭露书还提供了一种光学膜及光学膜的制造方法。
本发明授权光阻组成物、光学膜及光学膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光阻组成物，其特征在于，包括： A碱可溶性树脂； B光聚合性化合物； C光起始剂； D热起始剂； E黑色着色剂；其中E黑色着色剂包含有机黑色颜料；以及 F溶剂； 其中所述B光聚合性化合物包含至少一种乙烯性不饱和单体以及至少一种环氧化合物，且所述至少一种乙烯性不饱和单体以及所述至少一种环氧化合物的重量比例范围为1:5～5:1，所述至少一种环氧化合物具有式II所示结构，其中式II的R'、R"彼此相同或不同，各自独立地为氢、羟基、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基或-R-R，上述R'及R"中的至少1个为-R-R；此时，R为氢、C1～C10的亚烷基、-R-O-R-或-R-C＝OO-R-，此时，R～R彼此相同或不同，各自独立地为C1～C10的亚烷基；R为氢、巯基、异氰酸酯基、羧基、羟基、胺基、脲基、胺基甲酸酯基、甲基丙烯酸酯基、C1～C10的烷基、C1～C10的烷氧基、C3～C15的环烷基、C3～C15的杂环烷基、C6～C20的芳基或C5～C20的杂芳基；x为1～500的整数；y为1～500的整数；n为0或1的整数， R'SiO1.5xR"SiO1.5y II。
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