联华电子股份有限公司陈纪孝获国家专利权
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龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利高电子迁移率晶体管及其制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115312596B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110493062.0,技术领域涉及:H10D30/47;该发明授权高电子迁移率晶体管及其制作方法是由陈纪孝;李凯霖;陈威任设计研发完成,并于2021-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本高电子迁移率晶体管及其制作方法在说明书摘要公布了:本发明公开一种高电子迁移率晶体管及其制作方法,其中该高电子迁移率晶体管包含一基底,一通道层设置在基底上,一主动层设置在通道层上,其中主动层包含一P型氮化铝镓层,一P型氮化镓栅极设置在主动层上以及一源极电极以及一漏极电极设置于主动层上。
本发明授权高电子迁移率晶体管及其制作方法在权利要求书中公布了:1.一种高电子迁移率晶体管,其特征在于,包含: 基底; 通道层,设置在该基底上; 主动层,设置在该通道层上,其中该主动层包含P型氮化铝镓层; P型氮化镓栅极,设置在该主动层上,其中该P型氮化镓栅极与该P型氮化铝镓层之间具有界面,该P型氮化铝镓层中的P型掺质浓度自该界面往该通道层方向呈渐变式减少;以及 源极电极以及漏极电极,设置于该主动层上。
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