本田技研工业株式会社阿韦季克·哈鲁特云岩获国家专利权
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龙图腾网获悉本田技研工业株式会社申请的专利双层金属二硫属化物、其合成及其用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115498022B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210628359.8，技术领域涉及：H10D62/80；该发明授权双层金属二硫属化物、其合成及其用途是由阿韦季克·哈鲁特云岩;李煦凡设计研发完成，并于2022-06-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本双层金属二硫属化物、其合成及其用途在说明书摘要公布了：本公开一般涉及双层金属二硫属化物、用于形成双层金属二硫属化物的方法、以及双层金属二硫属化物在量子电子设备中的用途。在一个方面，提供了一种设备。该设备包括栅电极、设置在该栅电极的至少一部分上方的衬底、以及包括第一金属二硫属化物的底层，该底层设置在该衬底的至少一部分上方。该设备还包括顶层，该顶层包括第二金属二硫属化物，该顶层设置在该底层的至少一部分上方，该第一金属二硫属化物和该第二金属二硫属化物相同或不同。该设备还包括设置在该顶层的至少一部分上方的源电极和漏电极。
本发明授权双层金属二硫属化物、其合成及其用途在权利要求书中公布了：1.一种设备，所述设备包括： 栅电极； 衬底，所述衬底设置在所述栅电极的至少一部分上方； 双层结构，所述双层结构包括： 底层，所述底层包括第一金属二硫属化物，所述底层设置在所述衬底的至少一部分上方并具有20nm或更小的宽度； 顶层，所述顶层包括第二金属二硫属化物，所述顶层设置在所述底层的至少一部分上方并具有20nm或更小的宽度，所述第一金属二硫属化物和所述第二金属二硫属化物相同或不同； 和 源电极和漏电极，所述源电极和所述漏电极设置在所述顶层的至少一部分上方。
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