深圳市思坦科技有限公司张珂获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市思坦科技有限公司申请的专利一种透明光学结构、微型发光结构及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115980894B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211679525.3，技术领域涉及：G02B3/00；该发明授权一种透明光学结构、微型发光结构及制备方法是由张珂设计研发完成，并于2022-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种透明光学结构、微型发光结构及制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种透明光学结构、微型发光结构及制备方法，属于发光技术领域。光学结构的制备方法包括获取光学载片，在光学载片表面涂覆光刻胶；对涂覆有光刻胶的光学载片进行曝光显影，以得到多个微透镜前置结构的光刻胶；刻蚀显影后的光学载片以在光学载片表面设置微透镜部，得到光学结构。
本发明授权一种透明光学结构、微型发光结构及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种透明光学结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： 获取光学载片，在光学载片表面涂覆光刻胶； 对涂覆有光刻胶的光学载片进行曝光显影，以得到多个微透镜前置结构的光刻胶； 刻蚀显影后的光学载片以在光学载片表面设置微透镜部，得到光学结构； 所述对涂覆有光刻胶的光学载片进行曝光显影，以得到多个微透镜前置结构的光刻胶；刻蚀显影后的光学载片以在光学载片表面设置微透镜部，得到光学结构，包括： 对涂覆在光学载片上的第一光刻胶的第一部分进行曝光显影； 对涂覆有显影后的第一光刻胶的光学载片进行刻蚀，以将曝光的第一部分微透镜前置结构转移至光学载片上； 清洗掉光学载片表面的第一光刻胶后，在光学载片的刻蚀面上涂覆一层第二光刻胶； 对涂覆在光学载片上的第二光刻胶的第二部分进行曝光显影； 对涂覆有显影后的第二光刻胶的光学载片进行刻蚀，以将曝光的第二部分微透镜前置结构转移至光学载片上； 其中，第一部分和第二部分在光学载片所在平面的正投影相互错位。
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