东丽尖端素材株式会社朴钟容获国家专利权
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龙图腾网获悉东丽尖端素材株式会社申请的专利覆铜层压膜和包括其的电子器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116021848B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211188141.1，技术领域涉及：B32B27/28；该发明授权覆铜层压膜和包括其的电子器件是由朴钟容;李河树;千钟勳设计研发完成，并于2022-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本覆铜层压膜和包括其的电子器件在说明书摘要公布了：公开一种覆铜层压膜和包括其的电子器件。所述覆铜层压膜包括：聚酰亚胺基材，其中在至少一个表面上设置有氟层；连接tie层，其设置在其上设置有氟层的所述聚酰亚胺基材上；以及铜层，其设置在所述连接层上，其中，所述连接层包括选自元素周期表的第4族、第6族、第13族和第14族金属元素中的至少一种，所述金属元素的金属‑氧M‑O键解离能M‑Obonddissociationenergy为大于或等于400kJmol。
本发明授权覆铜层压膜和包括其的电子器件在权利要求书中公布了：1.覆铜层压膜，包括： 聚酰亚胺基材，其中在至少一个表面上设置有氟层； 连接层，其设置在其上设置有氟层的所述聚酰亚胺基材上；以及 铜层，其设置在所述连接层上， 其中， 所述连接层包括选自元素周期表的第4族、第6族、第13族和第14族金属元素中的至少一种， 所述金属元素的金属-氧键解离能为大于或等于400kJmol，且 所述金属元素包括选自W、Ti、Sn、Al和Mo中的至少一种。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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