北京石墨烯研究院;北京大学王路达获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉北京石墨烯研究院;北京大学申请的专利石墨烯分离膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116059845B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111293020.9，技术领域涉及：B01D71/02；该发明授权石墨烯分离膜及其制备方法和应用是由王路达;张东旭;侯丹丹;姚阿艳;孙佳月;张盛萍设计研发完成，并于2021-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本石墨烯分离膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种石墨烯分离膜，包括支撑层和分离层，所述分离层为具有纳米孔的双层石墨烯薄膜。本发明采用双层CVD石墨烯薄膜作为复合膜的分离层材料，较好的改善了单层CVD石墨烯薄膜应用在分离膜领域存在的易破损、对原材料要求高、成本高的问题，且性能得到明显提升，适用于薄膜电导法TOC分析仪的分离膜。还公开了石墨烯分离膜的制备方法，利用叠层转移石墨烯薄膜技术制备双层石墨烯分离膜，规避了大面积连续双层及多层CVD石墨烯薄膜材料的制备技术难题和材料限制；采用等离子体刻蚀方法为叠层转移法制备的双层石墨烯薄膜引入高密度有序纳米孔，保证了石墨烯分离膜的选择性和渗透性。
本发明授权石墨烯分离膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种石墨烯分离膜的制备方法，其特征在于，包括： S1，在生长于基底上的单层石墨烯表面形成支撑层； S2，在所述支撑层上贴合辅助转移媒介，得到辅助转移媒介支撑层单层石墨烯基底复合层，然后除去所述基底并通过浸润液浸润释放所述辅助转移媒介，得到支撑层单层石墨烯复合层； S3，将所述支撑层单层石墨烯复合层从所述浸润液中捞出后贴合至生长于基底上的单层石墨烯表面形成支撑层双层石墨烯基底复合层之后夹于两片热压板间进行热压，热压温度60-150℃，热压时间6-12h，之后在所述支撑层双层石墨烯基底复合层的支撑层上贴合辅助转移媒介，然后除去所述基底并释放所述辅助转移媒介得到支撑层双层石墨烯复合膜；以及 S4，将所述支撑层双层石墨烯复合膜进行制孔，在所述双层石墨烯上形成纳米孔； 其中所述浸润液选自乙醇、甲醇、异丙醇中的一种或多种。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京石墨烯研究院;北京大学，其通讯地址为：100095 北京市海淀区苏家坨镇翠湖南路13号院中关村翠湖科技园2号楼；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励