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龙图腾网获悉重庆鑫景特种玻璃有限公司申请的专利具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116409933B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111654235.9，技术领域涉及：C03C10/02；该发明授权具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷及其制备方法和应用是由周靖鹏;张延起;黄昊设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷，所述强化玻璃陶瓷的晶体相中包含尖晶石晶体和氧化锆晶体，且不含有含Li的晶体；所述强化玻璃陶瓷具有从其表面延伸至压缩深度的压缩应力区域，其压缩应力层深度DOL_0大于或等于所述强化玻璃陶瓷厚度的14％，所述强化玻璃陶瓷的张应力线密度大于或等于25000MPamm。通过向尖晶石玻璃陶瓷组分中引入更多的Li离子和Na离子，使制得的透明尖晶石玻璃陶瓷能够化学强化，获得具有高CS、DOL_0、CT_AV以及CT_LD的透明强化玻璃陶瓷，该强化玻璃陶瓷表现出优异的抗跌落性能。

本发明授权具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.具有高应力深度的透明强化玻璃陶瓷，其特征在于，所述强化玻璃陶瓷的晶体相中包含尖晶石晶体和氧化锆晶体，且不含有含Li的晶体； 所述强化玻璃陶瓷具有从其表面延伸至压缩深度的压缩应力区域，其压缩应力层深度DOL_0大于或等于所述强化玻璃陶瓷厚度的14%，所述强化玻璃陶瓷的张应力线密度CT_LD为25000～40000MPamm； 所述强化玻璃陶瓷包括位于表面的压应力层和位于内部的张应力层，所述强化玻璃陶瓷张应力层的组成，以氧化物的摩尔百分比计，包括： Li2O：3.50~6.00mol%、 Na2O：2.00~4.00mol%、 SiO2：50.00~65.00mol%、 Al2O3：14.50~25.00mol%、 MgO：3.50~8.00mol%、 ZnO：8.00~16.00mol%、 BaO：0~2.00mol%、 TiO2+ZrO2：3.00~5.50mol%； 以氧化物的摩尔百分比计，所述强化玻璃陶瓷张应力层的组成中： 0.40≤Al2O3+ZnO+MgO+ZrO2+TiO2Li2O+Na2O+SiO2+BaO≤0.70。

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