福建晶安光电有限公司李彬彬获国家专利权
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龙图腾网获悉福建晶安光电有限公司申请的专利一种转角度压印对位方法、设备及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117170185B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311075431.X，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种转角度压印对位方法、设备及产品是由李彬彬;吴福仁;李瑞评;巫婷;林宏超设计研发完成，并于2023-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种转角度压印对位方法、设备及产品在说明书摘要公布了：本发明涉及芯片加工技术领域，特别涉及一种转角度压印对位方法、设备及产品。所述转角度压印对位方法包括步骤：提供压印面上具有第一标定组、第二标定组的压印膜，第一标定组和第二标定组在压印面上呈预设角度θ布置；提供具有相对的第一面和第二面的晶片；通过压印膜对第一面进行压印，以使得第一面形成有与第一标定组对应的第一标记组以及与第二标定组对应的第二标记组；将压印膜上的第一标定组与晶片的第二标记组对准和或将所述压印膜上的第二标定组与所述晶片的第一标记组对准，再通过压印膜对第二面进行压印。通过上述设置，能够消除因晶片和载台旋转而造成的机械误差，极大提高转角度双面压印作业的旋转精度，进而提升晶片的压印效果。
本发明授权一种转角度压印对位方法、设备及产品在权利要求书中公布了：1.一种转角度压印对位方法，其特征在于，包括： 准备步骤；提供压印膜，所述压印膜的压印面上具有第一标定组、第二标定组，所述第一标定组和第二标定组在所述压印面上呈预设角度θ布置；提供一晶片，所述晶片具有相对的第一面和第二面； 第一面压印步骤；令所述第一面与所述压印面朝向相对，通过所述压印膜对所述第一面进行压印，以使得所述晶片的第一面形成有与所述第一标定组对应的第一标记组以及与所述第二标定组对应的第二标记组； 第二面压印步骤；令所述第二面与所述压印面朝向相对，将所述压印膜上的第一标定组与所述晶片的第二标记组对准，和或，将所述压印膜上的第二标定组与所述晶片的第一标记组对准，再通过压印膜对所述第二面进行压印以形成第一面和第二面具有呈预设角度θ的压印图形。
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