买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉长春理工大学申请的专利一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117215056B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311255462.3，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置是由欧阳名钊;李佳昕设计研发完成，并于2023-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置在说明书摘要公布了：一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，属于消杂光光学技术领域，包括：遮光罩；叶片，设置在遮光罩内壁上，叶片为径向叶片；光超吸收材料表面结构，设置在遮光罩内壁，光超吸收材料表面结构为高深宽比的锥形蛾眼结构。本申请改进了光学系统前端的遮光罩，通过叶片和光超吸收材料表面结构来消除可见光以及红外波段下杂散光对光学系统的影响，使系统尺寸微型化，提高成像质量及精度。叶片可以抑制外辐射产生的杂光直接摄入系统主镜，缩短镜筒长度。遮光罩外表面设置半导体制冷片能够转移消光微纳结构吸收光时产生的热量，减少热辐射，降低系统内部热量聚集，从而降低热量对光学系统的影响，提高图像的信噪比、对比度和清晰度。

本发明授权一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置在权利要求书中公布了：1.一种基于光超吸收材料表面结构的消杂光装置，其特征在于：包括： 遮光罩； 挡光环，设置在所述遮光罩内壁上； 光超吸收材料表面结构，设置在所述遮光罩内壁，所述光超吸收材料表面结构为高深宽比的锥形蛾眼结构； 所述锥形蛾眼结构的高度大于工作谱段最长波长的二分之一； 所述锥形蛾眼结构呈周期性的点阵形式布置，所述周期小于可见光的波长； 所述光超吸收材料表面结构采用泰伯位移光刻技术形成周期点阵结构，利用贵金属各向异性诱导刻蚀形成深孔的阵列；利用同性化学腐蚀，在所述深孔的基础上形成锥孔阵列；可模压材料通过纳米压印技术制成高深宽比的所述锥形蛾眼结构； 所述光超吸收材料表面结构为采用泰伯位移光刻技术形成的周期点阵结构，沉积贵金属层，通过高温退火工艺析出小球；利用贵金属诱导刻蚀形成深孔阵列；利用同性化学腐蚀，在深孔的基础上形成锥孔阵列；可模压材料通过纳米压印技术制成高深宽比的锥形蛾眼微纳结构； 半导体制冷片，设置在所述遮光罩外表面。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人长春理工大学，其通讯地址为：130022 吉林省长春市朝阳区卫星路7186号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。