艾尔贝姆应用公司D·C·赫特林获国家专利权
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龙图腾网获悉艾尔贝姆应用公司申请的专利粒子治疗装置及调谐该装置中带电粒子束位置的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117427284B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310901437.1,技术领域涉及:A61N5/10;该发明授权粒子治疗装置及调谐该装置中带电粒子束位置的方法是由D·C·赫特林;F·范德·斯塔彭;R·拉巴比设计研发完成,并于2023-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本粒子治疗装置及调谐该装置中带电粒子束位置的方法在说明书摘要公布了:一种粒子治疗装置及调谐该装置中带电粒子束位置的方法。该装置被配置为根据覆盖该装置的等中心平面中的治疗表面的预定义治疗场在目标上扫描带电粒子束。该装置能够在覆盖并且大于治疗表面的可到达表面上扫描射束。束挡器布置在该装置的扫描磁体的下游,位于防止射束到达可到达表面的至少一部分并且允许射束到达治疗表面的任何部分的位置处。控制系统被配置为控制该装置将射束引导至束挡器并且同时测量射束的位置,计算期望位置与当射束被引导至束挡器时射束的测量的位置之间的差异,以及通过考虑所计算的差异,根据预定义治疗场在目标上扫描射束。
本发明授权粒子治疗装置及调谐该装置中带电粒子束位置的方法在权利要求书中公布了:1.一种粒子治疗装置,包括 -粒子加速器2,用于输送带电粒子束; -射束传输系统4,用于根据主射束轴Z将所述带电粒子束输送至垂直于所述主射束轴Z的等中心平面11中的目标50; -扫描磁体5,用于在所述目标上扫描所述带电粒子束; -射束位置探测器6,布置在所述扫描磁体的下游并且适于在所述带电粒子束穿过所述射束位置探测器6时检测所述带电粒子束的X位置和Y位置; -束挡器10,布置在所述射束位置探测器的下游,所述束挡器适于在所述带电粒子束撞击所述束挡器时使所述带电粒子束停止; -控制系统20,被配置为驱动所述扫描磁体以根据覆盖所述等中心平面11中的治疗表面21的预定义治疗场在所述目标上扫描所述带电粒子束,所述控制系统还能够驱动所述扫描磁体以根据覆盖所述等中心平面11中的可到达表面22的可到达场来扫描所述带电粒子束,所述可到达表面22覆盖并且大于所述治疗表面21,其中,所述束挡器10被布置在防止所述带电粒子束到达所述可到达表面22的至少一部分并且允许所述带电粒子束到达所述治疗表面21的任何部分的位置处,并且其中,所述控制系统被配置为控制所述粒子治疗装置: -将所述带电粒子束引导至所述束挡器,并且同时通过使用所述射束位置探测器测量所述带电粒子束的X位置和Y位置, -计算所述带电粒子束的期望的X位置和Y位置分别与当被引导至所述束挡器时所述带电粒子束的测量的X位置和Y位置之间的差异, -根据所述预定义治疗场通过考虑所计算的差异来在所述目标上扫描所述带电粒子束。
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