济宁海富光学科技有限公司李佩灯获国家专利权
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龙图腾网获悉济宁海富光学科技有限公司申请的专利一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117720283B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311477790.8，技术领域涉及：C03C17/34；该发明授权一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺是由李佩灯;任凯平;任军;刘炯设计研发完成，并于2023-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺，属于微晶玻璃加工技术领域，包括AF丝印工序和AF镀膜工序，其特征在于包括：在AF丝印工序之前还包括基材表面预处理工序、ICP蚀刻处理工序、基材表面精处理工序；本发明的有益效果是：微晶玻璃基材表面进行预处理，提高微晶玻璃耐磨效果，两步沉积法，获得一种优越的牢固度、莫氏硬度和水滴角及达因值的镀膜微晶玻璃；采用了特定气分的两步ICP蚀刻处理，提高了经抛光表面精处理后的膜层进行镀膜后微晶玻璃的耐磨性能。
本发明授权一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺在权利要求书中公布了：1.一种提高微晶玻璃耐磨效果的镀膜工艺，包括AF丝印工序和AF镀膜工序，其特征在于包括：在AF丝印工序之前还包括基材表面预处理工序、ICP蚀刻处理工序、基材表面精处理工序； 所述基材表面预处理工序为：采用两步沉积法，通过PVD方式在微晶玻璃基材表面沉积3-7nm的首层打底材料，首层打底材料为Si3N4，然后在首层打底材料上再沉积20-30nm二层打底材料，二层打底材料为SiO2； 所述ICP蚀刻处理工序为在惰性保护气体的保护下，利用蚀刻气体源和催化气体，采用ICP对膜层表面进行蚀刻处理，用于降低表面粗糙度； ICP蚀刻处理工序具体为：以Ar气作为惰性保护气体，N2为蚀刻气体源，O2和H2作为催化气体， 所述基材表面精处理工序为采用抛光材料，对蚀刻处理的膜层进行抛光表面精处理。
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