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龙图腾网获悉中国科学院西安光学精密机械研究所申请的专利一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118675960B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410819627.3，技术领域涉及：H01J9/02；该发明授权一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法是由赵卫;李伟强;朱香平;李玮楠;冯娴娴设计研发完成，并于2024-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法，解决了现有方法制备的导电格栅窗口玻璃衬底表面有类似正余弦波的起伏，使其表面不平整，且在加速电场中工作时会产生横向杂散电流的问题。本发明利用纳米压印工艺在玻璃晶圆表面刻蚀出目标图形，形成格栅刻槽；然后通过镀膜制程在其表面沉积导电层以填充格栅刻槽，再通过化学机械抛光CMP工艺抛平表面，最后通过玻璃热键合制程制得表面平整的导电格栅窗口玻璃衬底。将该衬底使用在快响应、超快响应光电探测器件中，可以有效降低响应时间并快速补充电子到光敏感介质材料，可实现光电器件的高速时间分辨和瞬态捕捉。

本发明授权一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法在权利要求书中公布了：1.一种基于纳米压印技术制备导电格栅窗口玻璃衬底的方法，用于微光夜视像管超快成像透射型器件，其特征在于，包括以下步骤： 步骤1、刻蚀玻璃晶圆； 选取与待制备窗口玻璃衬底为同材质的玻璃晶圆，利用纳米压印工艺在玻璃晶圆内表面进行目标图形的刻蚀，得到格栅刻槽；所述格栅刻槽所占区域大小与待制备窗口玻璃衬底的小圆面大小相匹配； 步骤2、镀制导电层； 在所述格栅刻槽内镀制预设厚度的导电层； 步骤3、化学机械抛光及激光切割； 去除导电层超出玻璃晶圆内表面的部分并将玻璃晶圆内表面抛平，将玻璃晶圆切割成的带有所述格栅刻槽的圆片；所述圆片直径大于待制备窗口玻璃衬底上真空侧用于生长光电阴极材料的小圆面直径； 步骤4、与衬底玻璃键合； 将切割出来的所述圆片外表面与待制备窗口玻璃衬底的小圆面对应贴合，并采用同质玻璃键合工艺将二者进行热键合，使二者成为一个整体，并通过倒边工艺使所述圆片与待制备窗口玻璃衬底侧边坡度一致，完成导电格栅窗口玻璃衬底的制备。

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