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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种新型显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119023580B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411210034.3，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权一种新型显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法是由陈建魁;高锦程;尹周平;朱弘亮设计研发完成，并于2024-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种新型显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法在说明书摘要公布了：本发明属于喷墨打印视觉检测领域，具体涉及一种新型显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法，包括：根据待测阵列喷头巨量喷孔的排布方式，确定阵列化飞行墨滴观测装置组中观测装置排布行数N、一行观测装置布置个数a以及N大于1时的前后两行观测装置X向中心偏移距离xh，以适应性应用于不同排布方式的阵列喷头巨量喷孔；根据待测阵列喷头和观测装置组的结构属性，以同一行装置组观测同一行喷孔以及X向单程观测时间最短为约束，确定观测所需的相邻观测装置X向中心距离x1以及完成X向单程观测所需的装置组移动次数y；基于x1和y，进行喷孔进行遍历观测。本发明方法能够适应多种喷头组布置形式，并且能够快速完成喷头阵列巨量喷孔观测任务。

本发明授权一种新型显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法在权利要求书中公布了：1.一种显示喷印制造中阵列化飞行墨滴图像采集方法，其特征在于，包括： S1、设置阵列化飞行墨滴观测装置组与待测阵列喷头在Y向间隔一定距离并在X向上与待测阵列喷头平行；其中，所述装置组中观测装置排布行数N、一行观测装置布置个数a以及N大于1时的前后两行观测装置X向中心偏移距离均通过基于待测阵列喷头喷孔的排布方式以每行观测装置占据X向空间的长度小于每行喷孔占据X向空间的长度L为约束所确定；X向为单行喷孔排列方向，Y向与X向在水平面上垂直； S2、根据待测阵列喷头中每行喷孔占据X向空间的长度L、相邻喷孔间的X向距离以及观测装置的X向外形尺寸、一行观测装置布置个数a，以同一行装置组观测同一行喷孔以及X向单程观测时间最短为约束，确定相邻观测装置的X向中心距离以及完成X向单程观测所需的装置组移动次数y；调整装置组中相邻观测装置的X向中心距离为所述； S3、根据预设的每行观测装置当前的目标观测喷孔行，调整每个观测装置的焦距以进行飞行墨滴图像采集，在同步采集完多个喷孔所喷射飞行墨滴图像后对观测装置组进行一次X向整体移动，在X向单程完成所述移动次数y后，确定每行观测装置新的目标观测喷孔行，重复该步骤，直至完成对阵列喷孔所喷射飞行墨滴的遍历观测。

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