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龙图腾网获悉先导薄膜材料(淄博)有限公司申请的专利一种硅铝靶材及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119061347B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411196104.4，技术领域涉及：C23C4/134；该发明授权一种硅铝靶材及其制备方法是由刘亚凡;孙永利;余恒飞;文崇斌;张文涛;童培云设计研发完成，并于2024-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种硅铝靶材及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种硅铝靶材及其制备方法，属于金属加工领域，该方法采用等离子喷涂工艺，在产品制备时，通过旋转喷涂背管的特殊加护设计以及选择特殊粒径的粉末原料，使得制备的产品可以在高密度，没有明显裂纹的品质基础上，具有高沉积率，生产效率高。

本发明授权一种硅铝靶材及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种硅铝靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 1设置旋转喷涂背管，对旋转喷涂背管进行喷砂处理，随后通过电弧喷涂处理在旋转喷涂背管的喷涂部位上设置NiAl涂层； 2在设有NiAl涂层的旋转喷涂背管两端使用耐热胶带进行缠绕处理，随后使用护套覆盖耐热胶带的缠绕处； 3将混合粉末置入等离子喷涂机中，随后等离子喷涂在旋转喷涂背管上形成硅铝靶材；所述等离子喷涂时的工作功率为30~35kW，所述等离子喷涂使用喷枪的移动速率为35~45mmmin，喷涂距离为100~150mm，旋转喷涂背管的转速为200~300rpm，混合粉末的送粉量为190~200gmin，送粉气体流量为3.5~4.5nLmin；所述混合粉末包括硅粉和铝粉，所述硅粉和铝粉的质量之比为91:9~95:5； 所述硅粉经过过筛处理，粒径为45~150μm，其中粒径为75~150μm的硅粉质量含量占比为48wt%，该部分的硅粉的平均粒径为110μm，其余硅粉的粒径为45~75μm，该部分的硅粉的平均粒径为60μm；所述铝粉的粒径为50~120μm，平均粒径为85μm； 或者，所述硅粉经过过筛处理，粒径为45~150μm，其中粒径为75~150μm的硅粉质量含量占比为45wt%，该部分的硅粉的平均粒径为120μm，其余硅粉的粒径为45~75μm，该部分的硅粉的平均粒径为50μm；所述铝粉的粒径为50~120μm，平均粒径为90μm； 或者，所述硅粉经过过筛处理，粒径为45~150μm，其中粒径为75~150μm的硅粉质量含量占比为42wt%，该部分的硅粉的平均粒径为130μm，其余硅粉的粒径为45~75μm，该部分的硅粉的平均粒径为55μm；所述铝粉的粒径为50~120μm，平均粒径为100μm； 4待硅铝靶材喷涂至预定厚度后，冷却，即完成所述硅铝靶材的制备。

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