南京工业大学何雨轩获国家专利权
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龙图腾网获悉南京工业大学申请的专利一种非均相光催化下C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119118932B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411323671.1,技术领域涉及:C07D241/44;该发明授权一种非均相光催化下C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法是由何雨轩;郑旦庆设计研发完成,并于2024-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种非均相光催化下C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法在说明书摘要公布了:本发明属有机化学技术领域,具体为一种非均相光催化C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法。该类化合物的结构经1HNMR、13CNMR、HRMS等方法表征并得以确认。本发明方法在是在有机溶剂中使用石墨相氮化碳为非均相光催化剂,在碱和氧气存在条件下,在光照下石墨相氮化碳氧化烷基羧酸脱羧生成烷基自由基,随后与喹喔啉‑21H‑酮发生C‑3烷基化反应,制得C3烷基取代的喹喔啉‑21H‑酮类化合物I。本发明方法反应绿色简单高效,副反应少,产品纯度高,便于分离提纯;条件温和,底物的适用范围广;原料简单易得,成本较低,非均相光催化剂无毒且可回收循环使用,适用于工业化规模的制备,具有非常好的应用前景。
本发明授权一种非均相光催化下C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种非均相光催化下C3位烷基取代喹喔啉酮类化合物的制备方法,其特征在于是在有机溶剂中使用g-C3N4光催化剂,在碱存在条件下,烷基羧酸在光照下发生氧化脱羧生成烷基自由基;随后与喹喔啉-21H-酮发生C-3烷基化反应,制得C3烷基取代的喹喔啉-21H-酮类衍生化合物I,其反应式为: , 其中, R1为氢、烷基或芳基; R2独立选择氢、烷基、烷氧基、硝基、酯基、卤素取代基或三氟甲基; R2选择烷基时,烷基为C1~C8的烷基;R2选择烷氧基时,烷氧基为C1~C8的烷氧基;R2选择卤素取代基时,卤素取代基为氟、氯、溴;R2选择酯基时,酯基为甲酯基; R3为C1~C8的烷基,所述烷基为直链烷基或者带支链的烷基,或是环状烷基。
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