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龙图腾网获悉上海工程技术大学;上海映智研磨材料有限公司申请的专利一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119350975B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411481814.1，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液及其制备方法与应用是由张泽芳;常彤彤设计研发完成，并于2024-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液的制备方法与应用。纳米氧化铝抛光液包括α‑Al2O3磨料0.5wt%~6.0wt%、氧化剂0.5wt%~5.0wt%、助氧化剂0.1wt%~1.0wt%，pH调节剂0.05wt%~0.50wt%、分散剂0.10wt%~0.50wt%，余量为水；所述α‑Al2O3磨料D10为0.100~0.140μm，D50为0.180~0.230μm，D90为0.240~0.300μm，D100为0.340~0.420μm，径距为0.6~0.9。所述α‑Al2O3磨料的制备方法为：将α‑Al2O3粉末配制成α‑Al2O3浆料，添加柠檬酸钾后进行磨砂，对磨砂后的α‑Al2O3浆料进行颗粒分级，得到α‑Al2O3磨料。与现有技术相比，本发明选择分级的α‑Al2O3作为碳化硅抛光的磨粒，选用氧化性更强的高锰酸钾做氧化剂，将配制的纳米氧化铝抛光液将用于碳化硅衬底片的化学机械抛光中，在提高碳化硅衬底片的硅面材料去除速率的同时降低其表面粗糙度，得到原子级光滑的表面质量。

本发明授权一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种用于碳化硅衬底片的纳米氧化铝抛光液的制备方法，其特征在于，将α-Al2O3磨料、氧化剂、助氧化剂、pH调节剂、分散剂、水按质量百分比进行搅拌，混合均匀后得到纳米氧化铝抛光液； 所述纳米氧化铝抛光液包括α-Al2O3磨料0.5wt%~6.0wt%、氧化剂0.5wt%~5.0wt%、助氧化剂0.1wt%~1.0wt%，pH调节剂0.05wt%~0.5wt%、分散剂0.10wt%~0.50wt%，余量为水； 所述α-Al2O3磨料D10为0.100~0.140μm，D50为0.180~0.230μm，D90为0.240~0.300μm，D100为0.340~0.420μm，径距为0.6~0.9； 所述的氧化剂包括高锰酸钾、高锰酸钠、过硫酸钠、过氧化氢、次氯酸铵； 所述pH调节剂包括硝酸、氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠、磷酸氢二钠、磷酸二氢钠、四硼酸钠； 所述分散剂包括六偏磷酸钠、硅酸钠、柠檬酸钾、聚丙烯酸钠、马来酸丙烯酸共聚物钠盐、聚乙二醇； 所述助氧化剂包括硝酸钙； 所述α-Al2O3磨料的制备方法为：将α-Al2O3粉末配制成α-Al2O3浆料，添加柠檬酸钾后进行磨砂，对磨砂后的α-Al2O3浆料进行均一化处理，得到α-Al2O3磨料； 所述磨砂的具体参数为：氧化锆珠尺寸0.1~0.6mm，填充率70%~85%，转速1000~3500rpm，线速度5~10ms，流量80~120Lh，时间80~150min； 所述均一化处理的具体过程为：取磨砂后的α-Al2O3浆料在1000~3000rpm下离心1~10min，离心后得到上层浆料、中层浆料和下层浆料，取中层浆料进行过滤，过滤产物为所述α-Al2O3磨料；所述上层浆料的平均粒径小于100nm，所述中层浆料的平均粒径为100~250nm，所述下层浆料的平均粒径大于250nm；所述过滤包括一级过滤和二级过滤，所述一级过滤为使用过滤袋过滤，所述二级过滤为使用微孔滤芯过滤。

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