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深圳市大族数控科技股份有限公司韩文杰获国家专利权

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龙图腾网获悉深圳市大族数控科技股份有限公司申请的专利背钻深度的检测方法、信号处理组件、系统和程序产品获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120593651B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511101829.5,技术领域涉及:G01B11/22;该发明授权背钻深度的检测方法、信号处理组件、系统和程序产品是由韩文杰;杨朝辉设计研发完成,并于2025-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。

背钻深度的检测方法、信号处理组件、系统和程序产品在说明书摘要公布了:本申请适用于光学量测技术领域,提供了一种背钻深度的检测方法、信号处理组件、系统和程序产品。其中,背钻深度的检测方法包括:获取第一反射光与参考光束之间的第一干涉信号,所述第一反射光为电路板的背钻停止层对背钻停止层的入射光束进行反射的反射光;所述背钻停止层的入射光束从电路板的通孔侧壁进入介质层,经所述介质层到达所述背钻停止层;所述参考光束和所述背钻停止层的入射光束为对光源的出射光束进行分光得到的;基于所述第一干涉信号,确定所述背钻停止层与所述电路板的电路板表面的深度差,基于所述深度差确定背钻深度。本申请的实施例可以提高背钻控制的普适性。

本发明授权背钻深度的检测方法、信号处理组件、系统和程序产品在权利要求书中公布了:1.一种背钻深度的检测方法,其特征在于,包括: 控制背钻停止层的入射光束沿预设方向进入通孔侧壁,所述预设方向与电路板的垂直方向之间的夹角为目标角度;所述背钻停止层的入射光束从所述电路板的通孔侧壁进入介质层,经所述介质层到达所述背钻停止层; 获取第一反射光与参考光束之间的第一干涉信号,所述第一反射光为电路板的背钻停止层对所述背钻停止层的入射光束进行反射的反射光;所述参考光束和所述背钻停止层的入射光束为通过分光镜对光源的出射光束进行分光得到的; 基于所述第一干涉信号,确定所述背钻停止层的入射光束从分光镜到达所述背钻停止层的波程长度; 基于所述目标角度和所述波程长度,确定所述背钻停止层与所述分光镜的第一距离; 获取所述电路板表面与所述分光镜的第二距离; 根据所述第一距离和所述第二距离,确定所述背钻停止层与所述电路板的电路板表面的深度差,基于所述深度差确定背钻深度。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳市大族数控科技股份有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市宝安区福海街道和平社区重庆路12号大族激光智造中心3栋厂房101、3栋1楼、3栋2楼、3栋4楼、3栋7楼、4栋1楼、4栋4楼;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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