全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120722645B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511220929.X，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质是由请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名;请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质。该方法包括：基于版图中预定图形的仿真图形和对应于预定图形的晶圆图像确定光学邻近校正OPC模型的成本函数的值，其中沿预定图形的第一方向以及与第一方向非垂直的第二方向设置的标尺被赋予比其余方向的标尺更大的权重，第一方向为水平或者竖直方向；基于成本函数的值对OPC模型进行迭代以更新模型参数；以及响应于迭代满足预定条件，将对应的OPC模型确定为经校准的OPC模型。本公开的技术方案能够显著改善模型的仿真图形的轮廓出现方形的现象，从而提高仿真精度。
本发明授权光学邻近校正模型的校准方法、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正模型的校准方法，包括： 基于版图中预定图形的仿真图形和对应于所述预定图形的晶圆图像确定光学邻近校正OPC模型的成本函数的值，其中沿所述预定图形的第一方向以及与所述第一方向非垂直的第二方向设置的标尺被赋予比其余方向的标尺更大的权重，所述第一方向为水平或者竖直方向； 基于所述成本函数的值对所述OPC模型进行迭代以更新模型参数；以及 响应于所述迭代满足预定条件，将对应的OPC模型确定为经校准的OPC模型。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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