合肥埃科光电科技股份有限公司张伟雄获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥埃科光电科技股份有限公司申请的专利用于多高度平面的激光自动对焦方法、系统、设备及介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120742519B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511271869.4,技术领域涉及:G02B7/36;该发明授权用于多高度平面的激光自动对焦方法、系统、设备及介质是由张伟雄;程津林;谭晓;唐俊峰;殷亚祥;邵云峰;曹桂平;董宁设计研发完成,并于2025-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于多高度平面的激光自动对焦方法、系统、设备及介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种用于多高度平面的激光自动对焦方法、系统、设备及介质,涉及自动对焦领域。该方法包括:获取激光光斑图像;根据激光光斑图像中每一列像素点的灰度值,划分从不同高度平面反射形成的连续像素列;基于待对焦平面的宽度和宽度对应关系,确定从待对焦平面反射形成的连续像素列,作为第一像素列;基于第一像素列,计算得到待对焦平面的第一离焦量。基于上述处理,考虑到不同高度下平面反射回激光光斑的像素值不同,对从不同高度平面反射回的连续像素列进行划分。根据每一高度平面之间的宽度和宽度对应关系,确定第一像素列,进而计算待对焦平面的离焦量,避免了其余高度平面反射光斑带来的不利影响,提升了自动对焦的精确度。
本发明授权用于多高度平面的激光自动对焦方法、系统、设备及介质在权利要求书中公布了:1.一种用于多高度平面的激光自动对焦方法,其特征在于,包括: 获取激光光斑图像; 根据所述激光光斑图像中每一列像素点的灰度值,划分从不同高度平面反射形成的连续像素列;其中,不同高度平面下的平面宽度均不相同; 基于待对焦平面的宽度和宽度对应关系,确定从待对焦平面反射形成的连续像素列,作为第一像素列;其中,所述宽度对应关系表示连续像素列的宽度与不同高度平面的宽度之间的对应关系; 基于所述第一像素列,计算得到所述待对焦平面的第一离焦量; 在获取激光光斑图像之后,所述方法还包括: 基于所述激光光斑图像,计算待对焦平面的离焦量,作为第二离焦量; 判断所述第二离焦量的绝对值是否大于预设的近焦阈值;若是,则基于第二离焦量调节物镜的高度,并重新计算第二离焦量,直至计算出的第二离焦量的绝对值小于所述近焦阈值;若否,则根据所述激光光斑图像中每一列像素点的灰度值,划分从不同高度平面反射形成的连续像素列。
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