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合肥埃科光电科技股份有限公司唐俊峰获国家专利权

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龙图腾网获悉合肥埃科光电科技股份有限公司申请的专利一种双层对焦方法及系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120762188B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-21发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511271870.7,技术领域涉及:G02B7/36;该发明授权一种双层对焦方法及系统是由唐俊峰;张伟雄;程津林;杨晨飞;曹桂平;董宁设计研发完成,并于2025-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。

一种双层对焦方法及系统在说明书摘要公布了:本发明提出一种双层对焦方法及系统。该方法包括,获取经待测物表面反射的光斑图像;预处理光斑图像,获取像素行‑像素值曲线图,并筛选像素行‑像素值曲线图的峰点、谷点;基于每一谷点的像素值及与其相邻的峰点的像素值,计算每一谷点的左侧阈值、右侧阈值;基于该谷点的左侧阈值、右侧阈值,分别获取该谷点左、右侧的分割段的数量及宽度,并基于每一分割段中峰点的像素值,判断该谷点是否为分割点;分别计算分割点左侧、右侧的质心,获取显微物镜与待测物目标层之间的第一调整距离,以实现自动对焦。本申请通过筛选满足条件的谷点作为分割点,缩小理论计算与实操之间的误差,以提高对焦精度,使得在允许的偏差范围内,更快速实现对焦。

本发明授权一种双层对焦方法及系统在权利要求书中公布了:1.一种双层对焦方法,其特征在于,包括: 获取经待测物表面反射的光斑图像,待测物上表面为透明表面; 预处理光斑图像,获取像素行-像素值曲线图,并筛选像素行-像素值曲线图的峰点、谷点; 基于每一谷点的像素值及与其相邻的峰点的像素值,计算每一谷点的左侧阈值、右侧阈值; 基于该谷点的左侧阈值、右侧阈值,分别获取该谷点左、右侧的分割段的数量及宽度,并基于每一分割段中峰点的像素值,判断该谷点是否为分割点; 分别计算分割点左侧、右侧的质心,获取显微物镜与待测物目标层之间的第一调整距离,以实现自动对焦。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人合肥埃科光电科技股份有限公司,其通讯地址为:230000 安徽省合肥市高新区望江西路中安创谷科技园二期J2栋3F;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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