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广东思沃激光科技有限公司吴明仓获国家专利权

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龙图腾网获悉广东思沃激光科技有限公司申请的专利一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112379577B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011374575.1,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法是由吴明仓设计研发完成,并于2020-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法在说明书摘要公布了:本申请适用于无掩膜光刻技术领域,提供了一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法,无掩膜光刻设备包括用于产生面阵光的照明装置、设置于照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于载物台组件和数字微镜器件之间的投影物镜,以及电气连接载物台组件和数字微镜器件的控制单元;数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元,微反射镜单元反射的面阵光经过投影物镜后在基板上形成刻蚀光斑;各刻蚀光斑沿第一方向和与第一方向垂直的方向纵横排列,且刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射基板,第一方向和第二方向之间的夹角θ为锐角。控制单元控制微反射镜单元偏转,使得基板上的印制电路具有连续可变性。

本发明授权一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法在权利要求书中公布了:1.一种无掩膜光刻设备,其特征在于,包括用于产生面阵光的照明装置、设置于所述照明装置发出的面阵光的光路上的数字微镜器件、用于承载待加工的基板的载物台组件、设置于所述载物台组件和所述数字微镜器件之间的投影物镜,以及电气连接所述载物台组件和所述数字微镜器件的控制单元;所述数字微镜器件具有多个纵横排列的微反射镜单元,所述微反射镜单元反射的所述面阵光经过所述投影物镜后在所述基板上形成刻蚀光斑;各所述刻蚀光斑沿第一方向和与所述第一方向垂直的方向纵横排列,且所述刻蚀光斑能够沿第二方向扫描照射所述基板,所述第一方向和所述第二方向之间的夹角θ为锐角;其中,当需要在所述基板上印制宽度不等于所述刻蚀光斑的直径的整数倍的电路线时,所述控制单元控制所述数字微镜器件的多个纵横排列的微反射镜单元按照预设的时序关系将光束反射至所述基板上,在所述基板上扫描出宽度等于a[1±n-1sinθ]的线路线,其中a表示所述刻蚀光斑的直径,n为在第一方向上相邻的处于第一姿态的微反射镜单元的数量;通过所述控制单元设置曝光阈值,控制曝光时间,使重复曝光的区域达到阈值,使感光干膜发生物化反应,以实现所述基板上的电路线的连续可变性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人广东思沃激光科技有限公司,其通讯地址为:523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区研发一路1号A栋2楼A区;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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