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龙图腾网获悉中国科学院物理研究所申请的专利宽波段可变焦超透镜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114236964B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111475764.2，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权宽波段可变焦超透镜的制备方法是由李俊杰;顾长志;郑睿瑄;耿广州;杜硕;潘如豪;金爱子设计研发完成，并于2021-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本宽波段可变焦超透镜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种宽波段可变焦超透镜制备方法，包括：在高透过率薄衬底上旋涂光刻胶；基于曝光和显影手段实现图案化，在所述旋涂好光刻胶的衬底的光刻胶内部形成具有设计阵列图形的孔洞结构；将带有图案化孔洞光刻胶的高透过率玻璃的样品置于原子层沉积系统中，利用沉积的手段在样品表面填充均匀的材料，得到将图案化结构完全填充且整体表面平整的样品；再将填充完整的样品置于干法刻蚀系统中，先将光刻胶之上的平整材料层刻蚀掉暴露出图案化的结构和光刻胶，再将样品上的光刻胶全部清除干净，得到可以利用改变入射涡旋光束携带的轨道角动量变化实现变焦的超透镜。由此实现了对不同角动量的涡旋光入射下在不同空间位置处的聚焦。

本发明授权宽波段可变焦超透镜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种宽波段可变焦超透镜的制备方法，其特征在于，所述方法包括： 步骤S1、在预置的高透过率的衬底上旋涂光刻胶； 步骤S2、通过曝光方式在所述光刻胶内部形成具有设计阵列图形的孔洞结构，得到具有图案化周期排布结构的样品； 步骤S3、通过原子层沉积设备在所述光刻胶的孔洞结构中沉积材料以完全填充所述孔洞结构，并在所述光刻胶的表面上沉积材料，得到整体表面平整的平整层，从而得到填充完整的样品； 步骤S4、将所述填充完整的样品置于干法刻蚀系统中，先将所述光刻胶之上的平整层刻蚀掉，暴露出所述图案化周期排布结构和所述光刻胶，再将所述样品上的光刻胶全部清除，得到可以利用涡旋光束轨道角动量实现变焦的透镜， 其中，在所述步骤S3中，将所述步骤S2得到的样品放入所述原子层沉积设备的腔体中沉积氧化钛介质材料，利用水作为氧源，并采用四二甲氨基钛前驱体作为钛源避免氯污染并加热至所需的蒸汽压力，在整个过程中，所述原子层沉积设备处于Ar载气连续气流吹拂保护下反应，所述腔体始终保持稳定的反应生长温度； 其中，在所述步骤S3中，在所述光刻胶的表面上沉积的所述材料是具有适宜光学折射率参数的介质材料、金属单质材料、或复合材料， 其中，所述高透过率的衬底包括高透过率薄二氧化硅衬底、高透过率薄氮化硅衬底或高透过率薄氧化铝衬底。

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