国仪量子技术(合肥)股份有限公司陈洋获国家专利权
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龙图腾网获悉国仪量子技术(合肥)股份有限公司申请的专利扫描电镜成像参数校准验证方法、系统及电子设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119780133B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411973322.4,技术领域涉及:G01N23/20;该发明授权扫描电镜成像参数校准验证方法、系统及电子设备是由陈洋;张伟;曹峰;贺羽设计研发完成,并于2024-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本扫描电镜成像参数校准验证方法、系统及电子设备在说明书摘要公布了:本发明公开了一种扫描电镜成像参数校准验证方法、系统及电子设备,涉及扫描电镜技术领域。其中,方法包括:将光栅样品设置在预设初始位置;控制扫描电镜对光栅样品进行成像,得到第一光栅图像;根据第一光栅图像将光栅样品移动至扫描电镜的成像视野中心,并对光栅样品进行成像,得到第二光栅图像;根据第二光栅图像对扫描电镜的成像参数进行校准;控制扫描电镜根据校准后的成像参数对光栅样品进行成像,得到第三光栅图像;根据第三光栅图像对扫描电镜的成像参数进行验证,并保存验证通过的成像参数。
本发明授权扫描电镜成像参数校准验证方法、系统及电子设备在权利要求书中公布了:1.一种扫描电镜成像参数校准验证方法,其特征在于,所述方法包括: 将光栅样品设置在预设初始位置; 控制扫描电镜对所述光栅样品进行成像,得到第一光栅图像; 根据所述第一光栅图像将所述光栅样品移动至所述扫描电镜的成像视野中心,并对所述光栅样品进行成像,得到第二光栅图像; 根据所述第二光栅图像对所述扫描电镜的成像参数进行校准; 控制所述扫描电镜根据校准后的成像参数对所述光栅样品进行成像,得到第三光栅图像; 根据所述第三光栅图像对所述扫描电镜的成像参数进行验证,并保存验证通过的成像参数; 所述光栅样品为包括多个光栅的样品,所述根据所述第一光栅图像将所述光栅样品移动至所述扫描电镜的成像视野中心,包括: 根据所述第一光栅图像从多个所述光栅中确定目标光栅; 移动所述光栅样品,直至所述目标光栅的光栅中心移动至所述成像视野中心; 所述根据所述第二光栅图像对所述扫描电镜的成像参数进行校准,包括: 将所述光栅样品向第二预设方向移动第二预设距离,控制所述扫描电镜对所述光栅样品进行成像,得到第五光栅图像,其中,所述第二预设距离小于所述第二光栅图像中所述光栅的第一光栅尺寸的一半; 将所述光栅样品向所述第二预设方向移动第三预设距离,控制所述扫描电镜对所述光栅样品进行成像,得到第六光栅图像; 根据所述第二光栅图像、所述第五光栅图像、所述第六光栅图像和所述第一光栅尺寸得到所述扫描电镜的电旋转角度; 根据所述电旋转角度对所述扫描电镜的成像参数进行校准; 所述根据所述电旋转角度对所述扫描电镜的成像参数进行校准,包括: 根据所述第二光栅图像确定最大放大倍数,并将所述扫描电镜的放大倍数调整至所述最大放大倍数; 控制所述扫描电镜对所述光栅样品进行成像,得到第七光栅图像; 根据所述第七光栅图像得到所述光栅的第二光栅尺寸; 获取所述扫描电镜的聚焦电流,并根据所述第二光栅尺寸、所述聚焦电流和所述电旋转角度对所述扫描电镜的成像参数进行校准; 所述根据所述第二光栅图像、所述第五光栅图像、所述第六光栅图像和所述第一光栅尺寸得到所述扫描电镜的电旋转角度,包括: 得到所述光栅样品上的预设区域在所述第二光栅图像中的第一像素点集合、在所述第五光栅图像中的第二像素点集合和在所述第六光栅图像中的第三像素点集合; 得到所述第一像素点集合与所述第二像素点集合中对应像素点的第一像素距离集合,并得到所述第一像素点集合与所述第三像素点集合中对应像素点的第二像素距离集合; 根据所述第一光栅尺寸确定所述第一像素距离集合中的目标像素距离,根据所述目标像素距离得到基准角度; 根据所述第一光栅尺寸从所述第二像素距离集合中选出至少一个像素距离,得到与所述像素距离对应的待选角度; 根据所述基准角度和所述待选角度确定所述电旋转角度。
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