上海华虹宏力半导体制造有限公司庄俞佳获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华虹宏力半导体制造有限公司申请的专利光罩数据中标记图形的检查方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119846898B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510009366.3,技术领域涉及:G03F1/84;该发明授权光罩数据中标记图形的检查方法是由庄俞佳;陆佳琳;周京英设计研发完成,并于2025-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本光罩数据中标记图形的检查方法在说明书摘要公布了:一种光罩数据中标记图形的检查方法,包括:提供光罩数据;自光罩数据获取切割道光罩数据为待处理数据;将待处理数据进行数据转换,获取切割道版图数据;根据原始版图数据,获取所有的标记图形在切割道版图数据中的光罩层次和位置信息、以及各标记图形对应的标准式样图形;根据所有的标记图形在原始版图数据中的光罩层次和位置信息、以及各标记图形对应的标准式样图形,在切割道版图数据中对应的光罩层次的相应位置处建立若干预设窗口,一个标记图形对应一个预设窗口;在切割道版图数据中,获取各预设窗口内的标记图形;根据预设窗口内的标记图形与对应的标准式样图形,获取预设窗口内标记图形是否正确的判断结果,利于提高标记图形检查的正确性。
本发明授权光罩数据中标记图形的检查方法在权利要求书中公布了:1.一种光罩数据中标记图形的检查方法,其特征在于,包括: 提供光罩数据,所述光罩数据包括若干光罩层次的数据,各所述光罩层次对应光刻工艺中的若干重复的曝光单元,各所述光罩层次包括若干芯片区和切割道区,所述切割道区内具有若干标记图形,所述光罩数据包括切割道光罩数据和芯片光罩数据,所述切割道光罩数据为若干所述光罩层次的所述切割道区的数据,所述芯片光罩数据为若干所述光罩层次的若干所述芯片区的数据,所述光罩数据为对原始版图数据进行处理后获取; 自所述光罩数据获取所述切割道光罩数据为待处理数据; 将所述待处理数据进行数据转换,所述数据转换包括格式转换,使所述待处理数据可以被版图编辑工具处理,且使其倍率、镜像、参考坐标系和所述原始版图数据一致,获取切割道版图数据; 根据所述原始版图数据,获取所有的所述标记图形在所述切割道版图数据中的光罩层次和位置信息、以及各所述标记图形对应的标准式样图形; 根据所有的所述标记图形在所述原始版图数据中的光罩层次和位置信息、以及各所述标记图形对应的标准式样图形,在所述切割道版图数据中对应的所述光罩层次的相应位置处建立若干预设窗口,一个所述标记图形对应一个所述预设窗口; 在切割道版图数据中,获取各所述预设窗口内的标记图形; 根据所述预设窗口内的所述标记图形与对应的所述标准式样图形,获取所述预设窗口内所述标记图形是否正确的判断结果。
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