广东省科学院半导体研究所刘珠明获国家专利权
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龙图腾网获悉广东省科学院半导体研究所申请的专利带圆角器件结构模型构建方法及装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119961998B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510029473.2,技术领域涉及:G06F30/10;该发明授权带圆角器件结构模型构建方法及装置是由刘珠明;陈德龙;张子彤;朱亚楠;王立辉;陈志涛设计研发完成,并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本带圆角器件结构模型构建方法及装置在说明书摘要公布了:本发明公开一种带圆角器件结构模型构建方法及装置,其方法包括根据预先设置的几何结构参数建立样品几何图形和腔室图形,其中,样品几何图形为带圆角的几何结构;对样品几何图形和腔室图形进行有限元划分,得到第一网格信息和第二网格信息,其中,第一网格信息为样品几何图形的网格信息,第二网格信息为腔室图形的网格信息;根据预先设置的几何结构参数、预先设置的电子探针参数、第一网格信息、第二网格信息以及预先设置的器件结构材料参数,输入Nebula模拟器构建带圆角器件结构模型。本发明的方法能够实现完全自动化利用Nebula模拟器实现构建带圆角器件结构模型,同时,由于整个过程无需人工参与,能够实现批量模拟功能,从而提升CDSEM量测的精度和效率。
本发明授权带圆角器件结构模型构建方法及装置在权利要求书中公布了:1.一种带圆角器件结构模型构建方法,其特征在于,包括: 根据预先设置的几何结构参数建立样品几何图形和腔室图形,其中,所述样品几何图形为带圆角的几何结构,所述几何结构参数包括结构底部宽度、侧壁角、高度、圆角半径、相邻结构间距、线结构长度和衬底尺寸,其中,所述结构底部宽度、侧壁角、高度、圆角半径和相邻结构间距,均包括参数起点、参数终点和步长; 对样品几何图形和腔室图形进行有限元划分,得到第一网格信息和第二网格信息,其中,所述第一网格信息为样品几何图形的网格信息,所述第二网格信息为腔室图形的网格信息; 根据预先设置的几何结构参数、预先设置的电子探针参数、第一网格信息、第二网格信息以及预先设置的器件结构材料参数,输入Nebula模拟器构建带圆角器件结构模型; 所述根据预先设置的几何结构参数建立样品几何图形和腔室图形,包括: 根据预先设置的几何结构参数中的线结构长度和衬底尺寸建立腔室图形; 根据预先设置的几何结构参数中的结构底部宽度、侧壁角、高度、圆角半径和相邻结构间距嵌套循环形成若干参数组合; 根据参数组合确定样品几何图形中的各圆角的关键点坐标,所述关键点坐标包括圆角的圆心坐标、弧线起点坐标和弧线终点坐标; 根据样品几何图形中的位于样品几何图形顶部的圆角的关键点坐标与参数组合确定位于样品几何图形顶部的圆角在样品几何图形中的顶部是否成立; 在确定位于样品几何图形顶部的圆角在样品几何图形中的顶部成立时,确定样品几何图形上的相邻的结构的圆角的关键点坐标; 根据各圆角的关键点坐标构建圆角弧线; 根据参数组合构建样品几何图形中各结构的其他部分,形成样品几何图形。
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