清华大学;北京理工大学马健词获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学;北京理工大学申请的专利一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120100762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510488335.0，技术领域涉及：F04D29/54；该发明授权一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法是由马健词;许慧桐;季路成;李嘉宾;费腾;朱慧玲;周玲设计研发完成，并于2025-04-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法在说明书摘要公布了：一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法，该积叠方法包括在静子叶片上位于静子叶片的叶尖和叶根之间的区域设置上端壁积叠控制位置和下端壁积叠控制位置，其中，上端壁积叠控制位置相较于下端壁积叠控制位置更靠近叶尖；采用基元叶型积叠方法确定静子叶片的叶型，使得静子叶片在下端壁积叠控制位置与叶根之间的区域和在上端壁积叠控制位置与叶尖之间的区域均向前掠，并且，使得下端壁积叠控制位置与叶根之间的区域中的轮毂吸力面二面角和上端壁积叠控制位置与叶尖之间的区域中的机匣吸力面二面角均为钝角。采用该方法获得的静子叶片能降低其端区总压损失的20％以上。
本发明授权一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法在权利要求书中公布了：1.一种改善端区流动的静叶掠、二面角积叠控制方法，其特征在于，包括： 在静子叶片上位于静子叶片的叶尖和叶根之间的区域设置上端壁积叠控制位置和下端壁积叠控制位置，其中，上端壁积叠控制位置相较于下端壁积叠控制位置更靠近叶尖； 采用基元叶型积叠方法确定静子叶片的叶型，使得静子叶片在下端壁积叠控制位置与叶根之间的区域和在上端壁积叠控制位置与叶尖之间的区域均向前掠，并且，使得下端壁积叠控制位置与叶根之间的区域中的轮毂吸力面二面角和上端壁积叠控制位置与叶尖之间的区域中的机匣吸力面二面角均为钝角，轮毂吸力面二面角为静子叶片的吸力面与轮毂的外周面之间的夹角，机匣吸力面二面角为静子叶片的吸力面与机匣的内周面之间的夹角。
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