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龙图腾网获悉西安欧中材料科技股份有限公司申请的专利一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末、制备方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120644656B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511171451.6，技术领域涉及：B22F1/17；该发明授权一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末、制备方法及其应用是由罗成;瞿宗宏;孙兵;白瑞敏;王泽钰;王琦;相敏;王庆相;王松;李少强;赖运金设计研发完成，并于2025-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末、制备方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明属于粉末冶金技术领域，具体公开了一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末、制备方法及其应用，该GH4169粉末采用核‑壳结构，以标准GH4169粉末为内核，以过渡层合金粉末为外壳，外壳通过降低C和Si含量减少界面脆性相，同时添加B元素促进扩散并强化界面，且内核与外壳粒径匹配形成连续过渡层；其制备方法采用氩气雾化法分别制备两种粉末，再通过流化床包覆工艺实现均匀包覆；将该粉末装入包套，经真空密封和热等静压处理得到GH4169制件。本发明所制备的GH4169制件无原始颗粒边界PPB，综合力学性能优异，有效解决了传统粉末冶金制件因PPB导致的性能下降问题，适用于航空航天等高端装备领域。

本发明授权一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末、制备方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种用于消除原始颗粒边界的GH4169粉末，其特征在于，所述GH4169粉末采用核-壳结构，包括内核和包覆于所述内核表面的外壳，所述内核为标准GH4169粉末，所述外壳为过渡层合金粉末； 其中，所述标准GH4169粉末按质量百分比计的成分为：Cr：17.0%～21.0%，Ni：50.0%～55.0%，Nb：4.75%～5.50%，Mo：2.8%～3.3%，Ti：0.65%～1.15%，Al：0.2%～0.8%，C：0.02%～0.08%，Si：0.3%～0.7%，余量为Fe及不可避免的杂质； 所述过渡层合金粉末按质量百分比计的成分为：Cr：17.0%～21.0%，Ni：50.0%～55.0%，Nb：4.75%～5.50%，Mo：2.8%～3.3%，Ti：0.65%～1.15%，Al：0.2%～0.8%，B：0.005%～0.02%，C≤0.02%，Si≤0.05%，余量为Fe及不可避免的杂质。

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