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龙图腾网获悉吉瓦纳电气科技有限公司申请的专利用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层及配电箱获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120758835B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511261281.0，技术领域涉及：C23C14/08；该发明授权用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层及配电箱是由李亮;陈军;陈国刚;张政政;汪方志设计研发完成，并于2025-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层及配电箱在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层，涂层由如下步骤制备：在金属表面沉积第一氧化物层，其中，第一氧化物层包括Zn元素以及Ce元素；在第一氧化物层表面沉积第二氧化物层，其中，第二氧化物层包括Zn元素以及Ce元素，第一氧化物层与第二氧化物层的Zn元素与Ce元素的摩尔比不同；在第二氧化物层表面沉积第三氧化物层，其中，第三氧化物层包括Zn元素以及Dy元素；在第三氧化物层表面沉积第四氧化物层，其中，第四氧化物层包括Zn元素以及Dy元素，第三氧化物层与第四氧化物层的Zn元素与Dy元素的摩尔比不同。本发明的涂层可以提升油漆对金属基材的附着能力。

本发明授权用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层及配电箱在权利要求书中公布了：1.一种用于提升配电箱金属部件的漆面附着能力的涂层，所述涂层由如下步骤制备： 在金属表面沉积第一氧化物层，其中， 所述第一氧化物层包括Zn元素以及Ce元素； 在所述第一氧化物层表面沉积第二氧化物层，其中，所述第二氧化物层包括Zn元素以及Ce元素，所述第一氧化物层与所述第二氧化物层的Zn元素与Ce元素的摩尔比不同； 在所述第二氧化物层表面沉积第三氧化物层，其中，所述第三氧化物层包括Zn元素以及Dy元素； 在所述第三氧化物层表面沉积第四氧化物层，其中，所述第四氧化物层包括Zn元素以及Dy元素，所述第三氧化物层与所述第四氧化物层的Zn元素与Dy元素的摩尔比不同， 所述第一氧化物层通过磁控溅射方法沉积，其中，用于制备所述第一氧化物层的第一靶材为ZnO与CeO2的混合靶材，所述第一靶材的ZnO与CeO2的摩尔比为25-28：1， 所述第二氧化物层通过磁控溅射方法沉积，其中，用于制备所述第二氧化物层的第二靶材为ZnO与CeO2的混合靶材，所述第二靶材的ZnO与CeO2的摩尔比为29-31：1， 所述第三氧化物层通过磁控溅射方法沉积，其中，用于制备所述第三氧化物层的第三靶材为ZnO与Dy2O3的混合靶材，所述第三靶材的ZnO与Dy2O3的摩尔比为18-21：1， 所述第四氧化物层通过磁控溅射方法沉积，其中，用于制备所述第四氧化物层的第四靶材为ZnO与Dy2O3的混合靶材，所述第四靶材的ZnO与Dy2O3的摩尔比为23-25：1。

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