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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120762151B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511261425.2，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜是由陈宇;王胭脂;邵建达;陆叶盛;刘博通;王建国;朱晔新;邵宇川设计研发完成，并于2025-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜在说明书摘要公布了：本发明属于光学薄膜技术领域，公开了一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜，由下到上依次包括基底、复合高反射膜层和吸收损耗调控层，其中，复合高反射膜层由元素掺杂纳米复合低吸收高折射率材料和低折射率材料以特定非对称厚度交替镀制而成，复合高折射率材料通过元素掺杂纳米复合方式降低其吸收和损耗，并调控高低折射率材料厚度比例，降低薄膜吸收，吸收损耗调控层是通过调控中心波长电场降低薄膜整体吸收和损耗。本发明利用纳米复合低吸收高折射率材料、高低折射率材料厚度呈一定比例的复合高反射膜层和吸收损耗调控层结构，可极大的降低薄膜吸收和损耗，实现亚ppm量级超低吸收低损耗薄膜，为高功率激光系统和超高精密测量系统提供关键元件。

本发明授权一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜在权利要求书中公布了：1.一种纳米复合超低吸收低损耗薄膜，其特征在于，该薄膜从下至上依次层叠设置有基底、复合高反射膜层、吸收损耗调控层和入射介质层；其结构表示为：SaMbL^ncMdLA，其中： S代表基底； aMbL^n代表复合高反射膜层，由n个周期堆叠而成，每个周期包括一层光学厚度为a4λ的复合高折射率膜层M和一层光学厚度为b4λ的低折射率膜层L，其中，λ为设计中心波长，且ab＜1，a+b=2，所述复合高折射率膜层M由两种或三种高折射率材料通过元素掺杂纳米复合的方式构成，其吸收损耗低于任一单一组分的纯材料； cMdL代表吸收损耗调控层，包括一层光学厚度为c4λ的所述复合高折射率膜层M和一层光学厚度为d4λ的所述低折射率膜层L，c和d分别代表吸收损耗调控层中复合高折射率材料和低折射率材料光学厚度调控系数，用于调控中心波长处的电场强度及分布； A代表入射介质层，其与所述吸收损耗调控层的最外层表面接触。

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