上海新攀半导体科技有限公司彭盛君获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新攀半导体科技有限公司申请的专利一种半导体加工的清洗装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223587894U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423116361.0，技术领域涉及：B08B3/14；该实用新型一种半导体加工的清洗装置是由彭盛君设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体加工的清洗装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种半导体加工的清洗装置，包括清洗装置主体和过滤机构；清洗装置主体侧壁连接有排液管和补充管，补充管设于排液管上侧；过滤机构设于清洗装置主体一侧，过滤机构包括过滤箱，过滤箱上连接有连通管，连通管与排液管相连，过滤箱内安装有过滤帘，过滤帘的下侧分别设有第一倾斜板和第二倾斜板，第一倾斜板与第二倾斜板相互错位，第一倾斜板和第二倾斜板最低处均设有漏孔。本实用新型可以对清洗液进行过滤处理，以去除清洗液中的金属以及颗粒物，使得清洗液能够持续清洗半导体，进而可以降低用户更换清洗液的频率，不仅可以提高清洗液的利用率，而且可以降低用户清洗半导体的成本投入。
本实用新型一种半导体加工的清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体加工的清洗装置，其特征在于，包括： 清洗装置主体，所述清洗装置主体侧壁连接有排液管和补充管，所述补充管设于排液管上侧； 过滤机构，设于所述清洗装置主体一侧，所述过滤机构包括过滤箱，所述过滤箱上连接有连通管，所述连通管与所述排液管相连，所述过滤箱内安装有过滤帘，所述过滤帘的下侧分别设有第一倾斜板和第二倾斜板，所述第一倾斜板与第二倾斜板相互错位，所述第一倾斜板和第二倾斜板最低处均设有漏孔，所述第一倾斜板和第二倾斜板上均连接有若干过滤网架，所述过滤箱底部安装有抽液泵，所述抽液泵出液端连接有回流管，所述回流管与所述补充管相连。
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