拉普拉斯(西安)科技有限责任公司李齐龙获国家专利权
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龙图腾网获悉拉普拉斯(西安)科技有限责任公司申请的专利镀膜装置以及镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223592805U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423318414.7，技术领域涉及：C23C14/34；该实用新型镀膜装置以及镀膜设备是由李齐龙;祁文杰;李亮生;林佳继设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本镀膜装置以及镀膜设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种镀膜装置以及镀膜设备，涉及半导体或光伏材料加工领域，解决了传统的镀膜装置中溅射粒子会对产品造成物理损伤和热损伤的技术问题。该镀膜装置包括：工艺腔体，工艺腔体具有工艺腔室；进气组件，与工艺腔室连通；第一靶材；第二靶材，与第一靶材沿水平方向间隔设置；溅射电源，第一输出端与第一靶材电连接，第二输出端与第二靶材电连接，溅射电源被配置为向第一靶材和第二靶材提供交变电流，以使第一靶材和第二靶材交替地互为阴极和阳极；第一靶材和水平方向第二靶材的下方形成供产品进行镀膜的加工区域。通过这种结构，可以使落入加工区域内的产品上的大部分溅射粒子都有较低的能量，从而降低了对产品的物理损伤和热损伤。
本实用新型镀膜装置以及镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种镀膜装置，其特征在于，包括： 工艺腔体，所述工艺腔体具有工艺腔室； 进气组件，与所述工艺腔室连通，被配置为向所述工艺腔室输送工艺气体； 第一靶材，设置于所述工艺腔室内； 第二靶材，设置于所述工艺腔室内，与所述第一靶材沿水平方向间隔设置； 溅射电源，所述溅射电源具有第一输出端和第二输出端，所述第一输出端与所述第一靶材电连接，所述第二输出端与所述第二靶材电连接，所述溅射电源被配置为向所述第一靶材和所述第二靶材提供交变电流，以使所述第一靶材和所述第二靶材交替地互为阴极和阳极； 其中，所述第一靶材和所述第二靶材的下方形成供产品进行镀膜的加工区域。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拉普拉斯(西安)科技有限责任公司，其通讯地址为：713700 陕西省西安市西咸新区泾河新城崇文镇泾河三街76号光电子学研究与创新中心3号楼3-4层；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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