厦门韫茂科技有限公司赖海斌获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门韫茂科技有限公司申请的专利一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223592822U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-25发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423187833.1，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统是由赖海斌;赵茂生;刘彦峰设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统，涉及半导体加工设备技术领域。包括适于存放粉体的耐高温锥形工艺罐，还包括连接在所述锥形工艺罐上方的真空系统，以及连接在所述锥形工艺罐锥底的气源系统；所述气源系统包括连接至所述锥形工艺罐内工艺气体气路、前驱体气路以及载气气路；所述气源系统内设置有若干阀门以用于切换控制与锥形工艺罐连通的气路，所述锥形工艺罐内设置有适于使粉料从锥底向上提升搅拌的螺旋形搅拌机构；在所述粉体上沉积硅后，通过控制气源系统的阀门以选择继续进行CVD工艺或者ALD工艺。通过本方案以实现CVD工艺与ALD工艺的结合，提供了更加丰富的包覆方案。
本实用新型一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统在权利要求书中公布了：1.一种可实现CVD工艺与ALD工艺的沉积系统，包括适于存放粉体的耐高温锥形工艺罐，其特征在于，还包括连接在所述锥形工艺罐上方的真空系统，以及连接在所述锥形工艺罐锥底的气源系统；其中， 所述气源系统包括连接至所述锥形工艺罐内的若干工艺气体气路、前驱体气路以及载气气路；所述气源系统内设置有若干控制阀门以用于切换控制与锥形工艺罐连通的气路； 所述锥形工艺罐内设置有搅拌机构，所述搅拌机构适于使粉料从锥底向上提升搅拌； 所述沉积系统配置为能通过控制真空系统的开闭以及控制所述气源系统的控制阀门以切换实现CVD工艺或者ALD工艺。
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