东京毅力科创株式会社荒竹英将获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和装置清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112687576B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011077702.1，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置和装置清洗方法是由荒竹英将;黑田修;金川耕三设计研发完成，并于2020-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和装置清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基片处理装置，其包括处理槽、贮存部、承液部、贮存部排出管和承液部排出管。处理槽能够收纳多个基片且贮存处理液。贮存部与处理槽连接，贮存从处理槽排出的处理液。承液部承接从处理槽洒出的处理液。贮存部排出管将贮存于贮存部中的液体排出。承液部排出管将由承液部承接的液体向设置于外部的外部排出管排出。根据本发明，在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液线路的堵塞。
本发明授权基片处理装置和装置清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 能够收纳多个基片且贮存处理液的处理槽； 贮存部，其与所述处理槽连接，贮存从所述处理槽排出的所述处理液； 承接从所述处理槽洒出的所述处理液的承液部； 将贮存于所述贮存部中的液体排出的贮存部排出管； 将由所述承液部承接的液体向设置于外部的外部排出管排出的承液部排出管； 分支管，其连接所述承液部排出管的中途部和所述贮存部，将所述承液部排出管中流动的液体排出到所述贮存部； 清洗部，其向所述承液部供给用于除去源自所述处理液的结晶物的清洗液；和 切换部，其设置在所述承液部排出管的所述中途部，使所述承液部排出管中流动的液体的流出目的地在所述外部排出管与所述贮存部之间切换。
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