华为技术有限公司郑健华获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利一种成像器件、用于对成像器件供电的方法以及相关设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114127936B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980098625.7，技术领域涉及：H10F39/18；该发明授权一种成像器件、用于对成像器件供电的方法以及相关设备是由郑健华;黄婷婷设计研发完成，并于2019-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种成像器件、用于对成像器件供电的方法以及相关设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种成像器件、用于对成像器件供电的方法以及相关设备，该成像器件包括半导体衬底，所述半导体衬底的两侧设置第一阱和第二阱，所述第一阱的表面依次设置有第一绝缘介质层和控制栅电极，所述控制栅电极被施加的电压的大小和所述第一阱所存储的电荷的数量呈正相关关系。在不同的光照强度的环境下，可对所述控制栅电极施加不同大小的电压，且在所述控制栅电极上所施加的电压越大，则所述第一阱的电容容量越大，以使成像器件的满阱容量能够满足不同的光照环境。
本发明授权一种成像器件、用于对成像器件供电的方法以及相关设备在权利要求书中公布了：1.一种成像器件，其特征在于，包括半导体衬底，所述半导体衬底的两侧分别通过离子注入掺杂设置第一阱和第二阱，所述半导体衬底和所述第二阱具有第一掺杂类型，所述第一阱具有第二掺杂类型； 所述第一阱的表面依次设置有第一绝缘介质层和控制栅电极，所述控制栅电极被施加的电压的大小和所述第一阱所存储的电荷的数量呈正相关关系。
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