武汉华星光电技术有限公司张驰获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利一种阵列基板及显示终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114203738B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111522737.6，技术领域涉及：H10D86/40；该发明授权一种阵列基板及显示终端是由张驰;项云;陶健;李亚锋设计研发完成，并于2021-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阵列基板及显示终端在说明书摘要公布了：本申请提出了一种阵列基板及显示终端；该阵列基板包括衬底、设置在衬底上的遮光层、设置在遮光层上的有源层以及设置在有源层上的连接件，其中，遮光层包括多个间隔设置的遮光部，有源层包括多个间隔设置的有源部，一有源部与一遮光部对应，以及，相邻两个有源部通过桥接件电连接，桥接件的韧性大于有源部的韧性；本申请通过置桥接件连接相邻的两个有源部，且桥接件的韧性大于有源部的韧性，可以使有源层在相邻两个遮光部的之间的爬坡位置保持连续，降低爬坡位置的“有源层”晶化异常或断裂风险，进而避免或降低薄膜晶体管的开态电流大幅降低的可能性，减少暗点等显示不良现象。
本发明授权一种阵列基板及显示终端在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括： 衬底； 遮光层，设置在所述衬底上，所述遮光层包括多个间隔设置的遮光部； 有源层，设置在所述遮光层上，所述有源层包括多个间隔设置的有源部，一所述有源部与一所述遮光部对应；以及 桥接件，设置于所述有源层上，相邻两个所述有源部通过所述桥接件电连接，所述桥接件的韧性大于所述有源部的韧性； 其中，所述有源部在对应的所述遮光部上的正投影位于所述遮光部内，使得相邻两个所述有源部之间具有爬坡区，所述爬坡区具有第一底壁和第二底壁，所述第一底壁通过所述第二底壁连接于所述有源部的底壁，所述第一底壁对应于相邻两个所述有源部之间的间隙，所述第二底壁对应于所述遮光部超出所述有源部的部分，以使所述第一底壁低于所述第二底壁；所述桥接件位于所述爬坡区内并跨过所述第一底壁。
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