东方晶源微电子科技(北京)有限公司兰涛明获国家专利权
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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)有限公司申请的专利一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114563914B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210085792.1，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备是由兰涛明设计研发完成，并于2022-01-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备在说明书摘要公布了：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种掩模形貌图处理方法，包含以下步骤：获取待处理掩模设计版图以及所述待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图；将所述掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型得到所述掩模形貌图对应的光刻胶形貌图。本发明提供的一种掩模形貌图处理方法、装置和计算机设备解决了对于掩模形貌图进行处理时间成本高的技术问题。
本发明授权一种掩模形貌图处理方法、装置以及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种掩模形貌图处理方法，其特征在于：包含以下步骤： 获取待处理掩模设计版图以及所述待处理掩模设计版图对应的掩模形貌图； 将所述掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型得到所述掩模形貌图对应的光刻胶形貌图； 在将所述掩模形貌图输入预设的已训练形貌图映射模型之前还包括以下步骤： 获取初始掩模设计版图的典型掩模设计版图； 对所述典型掩模设计版图进行处理得到所述典型掩模设计版图对应的典型掩模形貌图及典型光刻胶形貌图； 将所述典型掩模形貌图及所述典型光刻胶形貌图输入未训练形貌图映射模型，并对所述未训练形貌图映射模型进行训练得到所述已训练形貌图映射模型。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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