台湾积体电路制造股份有限公司廖啟宏获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利微影系统及其方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115079518B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110259188.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权微影系统及其方法是由廖啟宏;施柏铭设计研发完成，并于2021-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本微影系统及其方法在说明书摘要公布了：在本揭示内容的一些实施方式中，提供一种微影系统及其方法，微影系统包括：辐射源、光罩台、反射式光罩、以及光学元件。辐射源配置以产生辐射光。光罩台包括基座以及位于基座上的光触媒层。反射式光罩设置于基座上，其中光触媒层设置于反射式光罩的一侧。光学元件配置以将辐射光照射至反射式光罩上。
本发明授权微影系统及其方法在权利要求书中公布了：1.一种微影系统，其特征在于，包括： 一辐射源，配置以产生一辐射光； 一光罩台，包括一基座以及位于该基座上的一光触媒层； 一反射式光罩，设置于该基座上，其中该光触媒层设置于该反射式光罩的一侧，该反射式光罩包含一反射膜堆叠，其中该光触媒层的光反射率与该反射膜堆叠的光反射率相同；以及 一光学元件，配置以将该辐射光照射至该反射式光罩上。
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