浙江师范大学申利国获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江师范大学申请的专利一种改性分离膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115532082B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211183474.5，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种改性分离膜及其制备方法和应用是由申利国;韩磊;林红军;张媚佳设计研发完成，并于2022-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改性分离膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本申请涉及膜材料技术领域的一种改性分离膜及其制备方法和应用，改性分离膜包括基膜以及基膜上表面和靠近基膜上表面一侧的膜孔表面的纳米结构层；其中，所述基膜的孔径为120‑400μm；所述纳米结构层由尺寸为100‑1000nm的微粒组成；制备方法包括3D打印分离膜；以及对分离膜的上表面和靠近分离膜上表面一侧的膜孔表面进行等离子体处理。本申请的改性分离膜制备方法将3D打印技术和膜分离技术进行联用，对传统制膜工艺进行改进，找到一种更优的膜替代工艺，并且改性方法无化学药剂，具有操作更加简便快捷、分离效率高、处理成本低、绿色无污染等优点，在膜分离技术改良和含油废水处理的应用等方面具有重要意义。
本发明授权一种改性分离膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种改性分离膜，其特征在于，包括丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物材质的基膜以及基膜上表面和靠近基膜上表面一侧的膜孔表面的丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物材质的纳米结构层；所述改性分离膜由丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物材料的分离膜的上表面和靠近分离膜上表面一侧的膜孔表面进行等离子体处理形成； 其中，所述基膜的孔径为120-400μm； 所述纳米结构层由尺寸为100-1000nm的微粒组成。
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