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龙图腾网获悉上海理工大学申请的专利基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115655665B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211299210.6，技术领域涉及：G01M11/02；该发明授权基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置是由王成设计研发完成，并于2022-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置在说明书摘要公布了：本发明公开了基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置，涉及激光参数测量技术领域，测量装置的内部包含有辐射压力测量模块、光衰减模块、光场分析组件、参考光源组件、干涉系统模块与高速光电传感器；待测激光为需要测量参数的激光源；辐射压力测量模块：用于测量待测光源所产生的辐射压力大小，并以此来计算得出激光功率能量值；光衰减模块：用于衰减待测激光强度以免器件的损伤。本发明基于干涉原理进行激光的多参数测量，降低了光路的复杂程度，高精度干涉测量能保证测量精度，有利于激光多参数测量的模块化设计；收益于装置中的采样器及光衰减模块，该装置可承受高能量激光测量的要求，不易损坏。

本发明授权基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置在权利要求书中公布了：1.基于激光干涉的高功率激光多参数测量装置，其特征在于，测量装置的内部包含有辐射压力测量模块、光衰减模块、光场分析组件、参考光源组件、干涉系统模块与高速光电探测器； 辐射压力测量模块：用于测量待测光源所产生的辐射压力大小，并以此来计算得出激光功率能量值，该模块包括：防干扰外壳、透镜光窗、高反射镜及与其连接的弹性元件，其中高反射镜固定在弹性元件上；所述高反射镜用于减少激光的热辐射效应； 光衰减模块：用于衰减待测激光强度以免器件的损伤，所述光衰减模块连接有第二分光镜，所述光衰减模块连接有第三分光镜； 光场分析组件：用于激光光场的分析，获取激光空域相关参数；所述光场分析组件由光束采样器、第一光束吸收模块、第二光束吸收模块以及CCD传感器组成； 干涉系统模块：用于激光辐射压力形成的反射镜位移的干涉信号的产生；干涉系统模块由He-Ne激光，第三分光镜，第四分光镜以及第一反射镜组成；第三分光镜的一侧设置有第一反射镜，第三分光镜的输出端是与第一反射镜的输入端连接的，第一反射镜的输出端与高速光电探测器的输入端连接，高速光电探测器的一侧设置有上位机信号处理系统，高速光电探测器的输出端是与上位机信号处理系统输入端相连接； 参考光源组件：参考光源组件由He-Ne激光和光隔离器构成，用于发出激光与干涉系统模块结合，测量被测激光产生的辐射压力作用下的高反射镜的位移，进而得到激光辐射压力； 高速光电探测器：用于检测所述干涉系统模块产生的干涉信号，完成待测激光时域以及频域参数的测量。

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