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龙图腾网获悉普乐新能源(蚌埠)有限公司申请的专利立式PVD双面沉积硅片装载装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115896727B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211736060.0，技术领域涉及：C23C14/50；该发明授权立式PVD双面沉积硅片装载装置是由王杨阳;彭为报;葛怀庆;章新良;孙嵩泉设计研发完成，并于2022-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本立式PVD双面沉积硅片装载装置在说明书摘要公布了：本发明给出了一种立式PVD双面沉积硅片装载装置；包括基片架和载板组件；载板组件包括托盘和掩膜板，托盘设有若干第一覆膜区域，处于第一覆膜区域内的托盘反面侧壁开有装配槽，处于第一覆膜区域内的托盘还开有第一镀膜通孔，第一镀膜通孔延伸至与装配槽相通，掩膜板设有若干第二覆膜区域，掩膜板也开有第二镀膜通孔，托盘与掩膜板之间可拆卸连接；基片架上设有工位，处于工位内的基片架开有通槽，基片架还设有罩板组件，罩板组件的两个罩板分别基片架正、反面两侧，罩板下端与基片架之间铰接，罩板上端与基片架之间的可拆卸连接，罩板上开有遮罩孔。利用本装载装置可以实现靶材同时向多片基片进行镀膜作业，同一区域内可以通过两片基片镀膜。

本发明授权立式PVD双面沉积硅片装载装置在权利要求书中公布了：1.一种立式PVD双面沉积硅片装载装置，其特征为： 包括基片架和至少一组载板组件； 所述载板组件包括托盘和掩膜板，托盘设有若干第一覆膜区域，处于第一覆膜区域内的托盘反面侧壁开有契合基片轮廓的装配槽，处于第一覆膜区域内的托盘还开有与基片的镀膜区域吻合的第一镀膜通孔，所述第一镀膜通孔一侧延伸至托盘的正面侧壁，所述第一镀膜通孔另一侧延伸至与装配槽相通，掩膜板设有若干第二覆膜区域，若干第二覆膜区域与托盘的若干第一覆膜区域一一对应，处于第二覆膜区域内的掩膜板也开有与基片的镀膜区域吻合的第二镀膜通孔，第二镀膜通孔贯穿掩膜板的正、反面侧壁，托盘与掩膜板之间可拆卸连接，托盘的装配槽与掩膜板之间构成放置两片基板的空间； 基片架上设有至少一个工位，处于工位内的基片架开有放置对应载板组件的通槽，基片架还设有至少一组罩板组件，至少一组罩板组件、至少一个工位与至少一组载板组件为一一对应关系，所述罩板组件包括两个罩板，两个罩板分别处于对应工位位置的基片架正、反面两侧，所述罩板下端与基片架之间铰接，所述罩板上端与基片架之间的可拆卸连接，所述罩板上开有贯穿其正、反面的遮罩孔，所述遮罩孔完全覆盖载板组件的所有第一镀膜通孔或者所有第二镀膜通孔。

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