罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司M·R·加丁科获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司申请的专利非均相氟化聚合物混合物抛光垫获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115922558B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211105931.9，技术领域涉及：B24B37/24；该发明授权非均相氟化聚合物混合物抛光垫是由M·R·加丁科;J·索设计研发完成，并于2022-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本非均相氟化聚合物混合物抛光垫在说明书摘要公布了：本发明提供了一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫。所述抛光垫包含聚脲抛光层和聚脲基质。所述聚脲基质具有软相和硬相。所述软相是由软链段形成的，并且所述硬相是由二异氰酸酯硬链段和固化剂形成的。所述软链段是脂肪族无氟聚合物基团和具有至少六个碳的长度的碳氟化合物的共聚物。所述聚脲基质通过固化剂固化并且包含气体或液体填充的聚合物微元件。所述软链段在抛光期间形成聚集在邻近所述聚合物微元件和抛光层处的富氟相。所述抛光层在剪切条件下在抛光期间仍然是亲水的。
本发明授权非均相氟化聚合物混合物抛光垫在权利要求书中公布了：1.一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫，其包含： 聚脲抛光层，所述聚脲抛光层包含聚脲基质，所述聚脲基质具有软相和硬相，所述软相是由软链段形成的，并且所述硬相是由二异氰酸酯硬链段和固化剂形成的，所述软链段是脂肪族无氟聚合物基团和具有至少六个碳的长度的碳氟化合物的共聚物，所述聚脲基质通过所述固化剂固化并且包含气体或液体填充的聚合物微元件，所述软链段在抛光期间形成聚集在邻近所述聚合物微元件和抛光层处的富氟相，其中所述抛光层在剪切条件下在抛光期间仍然是亲水的。
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