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龙图腾网获悉杭州盾源聚芯半导体科技有限公司申请的专利一种等离子分流盘的洗净剂组合及洗净方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116120997B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211723252.8，技术领域涉及：C11D1/72；该发明授权一种等离子分流盘的洗净剂组合及洗净方法是由刘志彪;祝建敏;李长苏;王少凡;陶筱林设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子分流盘的洗净剂组合及洗净方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种等离子分流盘的洗净剂组合，属于半导体技术领域。所述洗净剂组合包括煮沸洗净剂W1、加压刻蚀洗净剂W2。其中，所述煮沸洗净剂W1为溶有无机碱、无机盐和表面活性剂的有机醇溶液；所述加压刻蚀洗净剂W2为溶有强氧化剂和刻蚀调节剂的含氟酸溶液。本发明还公开了利用上述洗净剂组合对等离子分流盘进行洗净的方法，包括煮沸洗净、兆声洗净、加压刻蚀洗净、DHF洗净、SC1洗净和SC2洗净。本发明的洗净剂组合用于经机加工后的等离子分流盘产品的洗净，可有效去除产品表面有机物、金属离子及颗粒物，实现产品超高表面洁净度。

本发明授权一种等离子分流盘的洗净剂组合及洗净方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子分流盘的洗净方法，其特征在于，包括以下步骤： S1，煮沸洗净：将煮沸洗净剂W1和去离子水按90：10比例混合并加热，温度升至60℃时开启超声，超声频率为40KHZ，将等离子分流盘置于其中，煮沸20~60min，后将等离子分流盘取出置于纯水中继续煮沸5~20min； S2，兆声洗净：将等离子分流盘置于兆声波洗净机中进行洗净20~60min，其中兆声频率为0.95MHZ； S3，加压刻蚀洗净：在加压洗净机中预先置入加压刻蚀洗净剂W2，将等离子分流盘置于加压洗净机中，设置洗净温度为25~35℃，开启洗净，洗净时间为15~30min，洗净完成后置于纯水中浸泡5~15min； S4，最终洗净：依次进行DHF洗净、SC1洗净、SC2洗净， 其中，所述煮沸洗净剂W1和所述加压刻蚀洗净剂W2的配方如下： 煮沸洗净剂W1：将48%氢氧化钠、碳酸钾粉末、肪醇聚氧乙烯醚AEO-7和异丙醇按质量比40:20:5:35混合； 加压刻蚀洗净剂W2：将49%氢氟酸、70%硝酸、30%氟化氢铵和水按质量比5:2:10:83混合。

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