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龙图腾网获悉西南科技大学申请的专利一种聚甲基丙烯酸甲酯/聚碳酸酯偏光片的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116299825B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310098506.X，技术领域涉及：G02B5/30；该发明授权一种聚甲基丙烯酸甲酯/聚碳酸酯偏光片的制备方法是由竹文坤;何嵘;孙囡;王茜设计研发完成，并于2023-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种聚甲基丙烯酸甲酯/聚碳酸酯偏光片的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种聚甲基丙烯酸甲酯聚碳酸酯偏光片的制备方法，聚甲基丙烯酸甲酯聚碳酸酯偏光片的结构包括：基膜，其以PMMA和PC为主要原料；聚乙烯醇膜，其设置在基膜的上表面；光学补偿膜，其设置在聚乙烯醇膜的上表面；雾度调节层，其设置在光学补偿膜的上表面；透光电极层，其设置在雾度调节层的上表面。其中基膜以经过聚碳酸酯交联接枝和特定量三氧化二铝进行增韧改性的聚甲基丙烯酸甲酯为主要原料，替代传统的TAC，提升了基膜的力学性能和拉伸性能，不仅降低了偏光片的生产成本，还减小了偏光片的厚度，增强了偏光片的透光能力。

本发明授权一种聚甲基丙烯酸甲酯/聚碳酸酯偏光片的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种聚甲基丙烯酸甲酯聚碳酸酯偏光片，其特征在于，包括： 基膜，其包括PMMA和PC； 聚乙烯醇膜，其设置在所述基膜的上表面； 光学补偿膜，其设置在所述聚乙烯醇膜的上表面； 雾度调节层，其设置在所述光学补偿膜的上表面； 透光电极层，其设置在所述雾度调节层的上表面；所述透光电极层为氧化铟锡膜； 所述基膜的原料包括：按重量份，120~140份增韧改性的PMMA，60~80份PC，4~12份聚苯乙烯，15~18份聚氯乙烯，0.8~1.2份2,4-二羟基二苯甲酮，0.5~1份增韧剂，0.2~0.4份分散剂和0.1~0.4份聚二甲基硅氧烷； 所述增韧改性的PMMA的改性方法包括：将PMMA原料粉体和聚碳酸酯原料粉体按照质量比60~80:1的质量比混合均匀，得到混合物料，将混合物料投入至熔融混炼机中，加热至240~280℃，反应40~80min，加入占PMMA原料粉体质量2.5~8％的三氧化二铝粉末，三氧化二铝粉末的平均粒径为0.04μm，熔融混合30~100min，得到混熔产物；将混熔产物冷却至30~60℃，将混熔产物球磨为粉末，粉末粒径为0.2~100μm，将混熔产物粉末与四氢呋喃以1.0g:60mL的质量体积比混合，并倒入至加热溶解装置中，加热回流1~3h，待混熔产物粉末完全溶解后，倒入乙酸乙酯，乙酸乙酯用量为四氢呋喃体积的六分之一，以200rmin的速度搅拌2~4h后过滤，过滤后用乙酸乙酯多次洗涤固体粉末，在60~90℃温度下干燥后得到增韧改性的PMMA粉末。

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