广州华星光电半导体显示技术有限公司高开放获国家专利权
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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利背光模组及显示装置获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223611816U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423318664.0,技术领域涉及:G02F1/13357;该实用新型背光模组及显示装置是由高开放设计研发完成,并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本背光模组及显示装置在说明书摘要公布了:本申请实施例公开了一种背光模组及显示装置,其包括底框结构、光源组件和反射结构,底框结构包括底板和侧板,侧板和底板连接形成一容纳槽,底板包括一倾斜面,倾斜面为容纳槽的底面的至少部分,光源组件位于容纳槽内且设置在侧板上。反射结构至少设置在倾斜面上,反射结构被配置为将光源组件发出的光线反射至容纳槽的槽口方向。在容纳槽位于倾斜面的区域中,自靠近光源组件的一侧向远离光源组件的一侧的方向上,容纳槽的深度递减。本申请实施例通过在底板上设置倾斜面,使得光源组件发出的光被倾斜面上的反射结构反射并朝向容纳槽槽口的方向辐射以形成面光源,从而可以节省导光板和光学膜片,达到提高背光模组的组装效率的效果。
本实用新型背光模组及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种背光模组,其特征在于,包括: 底框结构,包括底板和侧板,所述侧板设置在所述底板的边缘区域上,所述侧板和所述底板连接形成一容纳槽,所述底板包括一倾斜面,所述倾斜面为所述容纳槽的底面的至少部分; 光源组件,位于所述容纳槽内且设置在所述侧板上;以及 反射结构,位于在所述容纳槽内且至少设置在所述倾斜面上,所述反射结构被配置为将所述光源组件发出的光线反射向所述容纳槽的槽口方向; 其中,在所述容纳槽位于所述倾斜面的区域中,自靠近所述光源组件的一侧向远离所述光源组件的一侧的方向上,所述容纳槽的深度递减。
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