武汉楚兴技术有限公司冯太永获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉楚兴技术有限公司申请的专利一种约束装置、等离子体刻蚀装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223612363U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422932031.2，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种约束装置、等离子体刻蚀装置是由冯太永;李二雷设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种约束装置、等离子体刻蚀装置在说明书摘要公布了：本申请提供一种约束装置、等离子体刻蚀装置，涉及半导体工艺制造技术领域，旨在不同压力步骤下实现等离子体分布不均的同步补偿。该约束装置应用于等离子体刻蚀机，包括：多个分流片组、多个隔离板和多个驱动组件；分流片组包括多个分流子片，多个分流子片依次间隔排列，多个分流组围合呈环形；隔离板位于相邻两个分流片组之间，分流片组与位于其两侧的隔离板连接；每个驱动组件与一个分流片组中的多个分流子片连接，被配置为带动多个分流子片运动，以改变分流子片相对参考平面的倾斜角度，参考平面为约束装置所在平面。
本实用新型一种约束装置、等离子体刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种约束装置，其特征在于，应用于等离子体刻蚀机，包括： 多个分流片组，所述分流片组包括多个分流子片，所述多个分流子片依次间隔排列，所述多个分流片组围合呈环形； 多个隔离板，所述隔离板位于相邻两个分流片组之间，所述分流片组与位于其两侧的隔离板连接； 多个驱动组件，每个所述驱动组件与一个所述分流片组中的多个分流子片连接，被配置为带动所述多个分流子片运动，以改变所述分流子片相对参考平面的倾斜角度，所述参考平面为所述约束装置所在平面。
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