至微半导体(上海)有限公司姚军军获国家专利权
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龙图腾网获悉至微半导体(上海)有限公司申请的专利一种晶圆清洗槽获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223612383U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520215679.X，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种晶圆清洗槽是由姚军军;林忠宝;吴凌峰设计研发完成，并于2025-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆清洗槽在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种晶圆清洗槽，涉及晶圆清洗技术领域，包括：多根进液管道，设置在晶圆清洗槽的槽口，每个进液管道连接一个储液罐；防溅圈，设置在晶圆清洗槽的内部，随晶圆清洗槽的内部的液体浮动，防溅圈上开设有晶圆拿取口。有益效果是避免了使用多个计量槽、计量泵及流量计等复杂设备，显著简化了系统配置，从而降低了整体设备成本，减少了硬件需求，还降低了安装、维护和运营的成本。防溅圈的设计不仅能够随清洗槽内液体浮动，自动适应不同液位，还能有效防止药液在注入时因流速过快或冲击造成的飞溅现象。这一设计直接解决了现有技术中因液体飞溅导致的配液比例不准确及环境污染问题，确保了清洗环境的清洁度和混液比例的精确性。
本实用新型一种晶圆清洗槽在权利要求书中公布了：1.一种晶圆清洗槽，其特征在于，包括： 多根进液管道，设置在晶圆清洗槽的槽口，每个所述进液管道连接一个储液罐； 防溅圈，设置在所述晶圆清洗槽的内部，随所述晶圆清洗槽的内部的液体浮动，所述防溅圈上开设有晶圆拿取口。
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