厦门法拉电子股份有限公司陈渊伟获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门法拉电子股份有限公司申请的专利金属化膜及金属化薄膜电容器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113314341B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110393018.2，技术领域涉及：H01G4/33；该发明授权金属化膜及金属化薄膜电容器是由陈渊伟;郑建林;张聪慧设计研发完成，并于2021-04-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属化膜及金属化薄膜电容器在说明书摘要公布了：本发明公开了一种金属化膜和金属化薄膜电容器，其中金属化膜包括：有机薄膜层、高方阻层和多根加厚筋条；其中，所述有机薄膜层的宽度大于所述高方阻层的宽度，以通过所述有机薄膜层与所述高方阻层之间的宽度差值设置无镀层区域；所述高方阻层蒸镀在所述有机薄膜层一侧，所述多根加厚筋条间隔分布在所述高方阻层相对于所述有机薄膜层的另一侧；能够有效提高金属化膜制作得到金属化薄膜电容器的层间气隙量；防止其自愈时因层间气隙小而导致自愈不完全发生短路；保障金属化薄膜电容器的使用安全性。
本发明授权金属化膜及金属化薄膜电容器在权利要求书中公布了：1.一种金属化膜，其特征在于，包括：有机薄膜层、高方阻层和多根加厚筋条； 其中，所述高方阻层蒸镀在所述有机薄膜层一侧，所述多根加厚筋条间隔分布在所述高方阻层相对于所述有机薄膜层的另一侧；所述加厚筋条的延伸长度小于等于所述金属化膜宽度的二分之一；所述加厚筋条的延伸方向与金属化膜的缠绕方向垂直； 所述有机薄膜层的宽度大于所述高方阻层的宽度，以通过所述有机薄膜层与所述高方阻层之间的宽度差值设置无镀层区域。
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