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龙图腾网获悉上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司申请的专利一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114420594B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111647211.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统是由邓信甫;孟庆璋;卢证凯;韩月菲设计研发完成，并于2021-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统，包括：清洗蚀刻装置，用于对未处理晶圆进行清洗蚀刻；控制模块，包括：第一控制单元，用于控制第一传送带将未处理晶圆输送至指定位置，并控制第一机器人本体带动第一吸附组件移动至未处理晶圆的上表面并吸附；第二控制单元，用于控制第一机器人本体将未处理晶圆放置到放置台中进行清洗及高温化学蚀刻；第三控制单元，用于控制第二机器人本体带动第二吸附组件移动至已处理晶圆的上表面并吸附；第四控制单元，用于控制第二机器人本体将已处理晶圆放置到第二传送带上。有益效果是本系统能够实现运输流程和清洗流程自动化，且对晶圆进行稳定的高温化学蚀刻以提高晶圆的品质参数。

本发明授权一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统在权利要求书中公布了：1.一种有效达成高温化学蚀刻反应的晶圆清洗蚀刻系统，其特征在于，包括: 一清洗蚀刻装置，用于对一未处理晶圆进行清洗蚀刻得到一已处理晶圆； 一第一传送带，设置于所述清洗蚀刻装置的一侧，用于输送多个所述未处理晶圆至所述清洗蚀刻装置进行清洗蚀刻； 一第一机器人本体，设置于所述第一传送带靠近所述清洗蚀刻装置的一端，所述第一机器人本体上设有一第一机械臂； 一第二传送带，设置于所述清洗蚀刻装置的另一侧，用于输送所述已处理晶圆至外部的一收纳装置进行收纳储藏； 一第二机器人本体，设置于所述第二传送带靠近所述清洗蚀刻装置的一端，所述第二机器人本体上设有一第二机械臂； 一控制模块，分别连接所述清洗蚀刻装置、所述第一传送带、所述第一机器人本体、所述第二传送带和所述机器人本体，包括： 一第一控制单元，用于控制启动所述第一传送带将靠近所述清洗蚀刻装置的所述未处理晶圆输送至一指定位置，并控制所述第一机器人本体带动所述第一机械臂末端的一第一吸附组件移动至所述未处理晶圆的上表面，以及控制所述第一吸附组件吸附所述未处理晶圆并控制暂停所述第一传送带； 一第二控制单元，连接所述第一控制单元，用于控制所述第一机器人本体带动所述第一机械臂将所述未处理晶圆放置到所述清洗蚀刻装置内的一放置台中，并控制所述清洗蚀刻装置对所述未处理晶圆进行清洗及高温化学蚀刻以得到所述已处理晶圆； 一第三控制单元，连接所述第二控制单元，用于控制所述第二机器人本体带动所述第二机械臂末端的一第二吸附组件移动至所述已处理晶圆的上表面，并控制所述第二吸附组件吸附所述已处理晶圆； 一第四控制单元，连接所述第三控制单元，用于控制所述第二机器人本体带动所述第二机械臂将所述已处理晶圆放置到所述第二传送带上，并控制启动所述第一传送带； 所述清洗蚀刻装置包括： 一第一喷淋管，设置于所述放置台的上方，用于喷淋一第一清洗液至所述未处理晶圆的上表面进行高温化学蚀刻； 所述第一喷淋管内设置可升降的多层回收腔体，与可升降的所述放置台相结合。

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